[發明專利]用于低摩擦結合活塞密封件的密封唇

有效

• 申請號: 201710588669.0
• 申請日: 2017-07-19
• 公開（公告）號: CN107664221B
• 公開（公告）日: 2021-04-02
• 發明（設計）人: 丹尼爾·J·利維;羅伯特·D·佩凱克;蘭斯·A·佩措爾德
• 申請（專利權）人: 斯凱孚公司
• 主分類號: F16J15/16
• 分類號: F16J15/16
• 代理公司: 北京智沃律師事務所 11620
• 代理人: 王屹東

1.一種用于低摩擦結合活塞密封件(100)的環形密封件，所述環形密封件具有中心軸線并且包括：

環形密封件主體(50)，所述環形密封件主體(50)繞著所述中心軸線對稱地定位，和

環形密封唇(10)，所述環形密封唇(10)與所述環形密封件主體(50)一體成型并且具有：

下部密封唇主體(52)，和

頂部密封唇(12)，所述頂部密封唇(12)具有：

第一徑向唇厚度(T1)，

第二徑向唇厚度(T2)，

徑向唇高度(H)，和

徑向唇總壓力接收厚度(T3)，

其中，所述第二徑向唇厚度(T2)與所述第一徑向唇厚度(T1)的比率小于1.00，

所述徑向唇高度(H)與所述第二徑向唇厚度(T2)的比率大于或等于0.65，

所述徑向唇總壓力接收厚度(T3)小于或等于0.8mm，

所述第一徑向唇厚度(T1)小于或等于0.7mm，

所述徑向唇總壓力接收厚度(T3)由參考點P1與參考點P3之間的水平距離確定，

所述第一徑向唇厚度(T1)由參考點P1與參考點P2之間的水平距離確定，

所述徑向唇高度(H)由第一水平線(X1)與第二水平線(X2)之間的豎直距離以及由參考點P1和參考點P4確定，

所述第二徑向唇厚度(T2)由參考點P3與參考點P4之間的水平距離確定，

P1、P2、P3和P4都位于環形密封唇的外表面上，

P1位于第一水平線(X1)與第一徑向唇半徑(R1)的弧的中間的位于最左邊的豎直切點的交叉點處，P2位于第二徑向唇半徑(R2)與第一水平線(X1)的交叉點處，P3位于頂部密封唇(12)的基部(14)的沿著第二水平線(X2)的右端點處，P4位于頂部密封唇(12)的基部(14)的沿著第二水平線(X2)的左端點處，第二水平線(X2)在頂部密封唇(12)的基部(14)處，并且

所述第一徑向唇半徑(R1)的中心點還位于第一水平線(X1)上。

2.一種用于低摩擦結合活塞密封件的環形密封件，所述環形密封件具有中心軸線并且包括：

環形密封件主體，所述環形密封件主體繞著所述中心軸線對稱地定位，和

環形密封唇，所述環形密封唇與所述環形密封件主體一體成型并且具有：

下部密封唇主體，和

頂部密封唇，所述頂部密封唇具有：

第一徑向唇厚度(T1)，

第二徑向唇厚度(T2)，其中

所述第二徑向唇厚度(T2)與所述第一徑向唇厚度(T1)之間的比率小于1.00，

所述第一徑向唇厚度(T1)由參考點P1與參考點P2之間的水平距離確定，所述第二徑向唇厚度(T2)由參考點P3與參考點P4之間的水平距離確定，P1位于第一水平線(X1)與第一徑向唇半徑(R1)的弧的中間的位于最左邊的豎直切點的交叉點處，所述第一徑向唇半徑(R1)的中心點還位于第一水平線(X1)上，P2位于第二徑向唇半徑(R2)與第一水平線(X1)的交叉點處，第二水平線(X2)在頂部密封唇的基部處，P3位于頂部密封唇的基部的沿著第二水平線(X2)的右端點處，P4位于頂部密封唇的基部的沿著第二水平線(X2)的左端點處。

3.根據權利要求2所述的用于低摩擦結合活塞密封件的環形密封件，其特征在于，還包括徑向唇高度(H)，其中

徑向唇高度(H)與第二徑向唇厚度(T2)的比率大于或等于0.65，

所述徑向唇高度(H)由參考點P1與參考點P4之間的豎直距離確定。

4.根據權利要求2所述的用于低摩擦結合活塞密封件的環形密封件，其特征在于，還包括徑向唇總壓力接收厚度(T3)，所述徑向唇總壓力接收厚度(T3)由參考點P1與參考點P3之間的水平距離確定，所述徑向唇總壓力接收厚度(T3)小于或等于0.8mm。

5.根據權利要求2所述的用于低摩擦結合活塞密封件的環形密封件，其特征在于，所述第一徑向唇厚度小于或等于0.7mm。