[發明專利]減壓干燥設備及減壓干燥方法

有效

• 申請號: 201710587816.2
• 申請日: 2017-07-18
• 公開（公告）號: CN107315325B
• 公開（公告）日: 2019-04-30
• 發明（設計）人: 龔成波
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: G03F7/38
• 分類號: G03F7/38
• 代理公司: 深圳市德力知識產權代理事務所 44265
• 代理人: 林才桂

本發明提供一種減壓干燥設備及減壓干燥方法。該設備包括：工作腔、工作臺、抽氣孔、進氣孔、以及進氣孔閥門，所述工作臺設于所述工作腔內，所述工作臺的四角分別設有一抽氣孔，對應每一個抽氣孔均設有至少一個與該抽氣孔相鄰的進氣孔，每一個進氣孔上均設有一進氣孔閥門，通過在所述抽氣孔抽氣的同時由所述進氣孔在所述抽氣孔的周邊通入保護氣，減少所述抽氣孔從基板的邊緣抽離揮發后的光刻膠溶劑的速度，從而提升光刻膠溶劑揮發的均一性，避免因光刻膠溶劑揮發不均勻影響顯影制程的線寬，保證顯影制程的線寬的均勻性。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種減壓干燥設備及減壓干燥方法。

背景技術

隨著顯示技術的發展，液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)和有機發光二極管顯示器(Organic Light Emitting Display，OLED)等平面顯示裝置因具有高畫質、省電、機身薄及應用范圍廣等優點，而被廣泛的應用于手機、電視、個人數字助理、數字相機、筆記本電腦、臺式計算機等各種消費性電子產品，成為顯示裝置中的主流。

無論是液晶顯示器還是有機發光二極管顯示器在制作過程中都經常用到光刻工序，其目的是使玻璃基板上的金屬或非金屬膜層在依次經過光刻膠涂布、掩膜曝光、顯影和刻蝕工序之后在其相應的位置不受到損害，從而達到在玻璃基板上形成圖案的目的。光刻膠涂布是光刻制程中的一個重要工序，為保證光刻膠的流動性和涂布性能，光刻膠中80％左右為揮發性的溶劑，在涂布之后還必須進行溶劑去除的步驟，目前溶劑去除主要采用先減壓干燥再加熱烘烤相結合的方式進行的。其中，減壓干燥可通過減壓去除光刻膠中的揮發溶劑，使得光刻膠的流動性減弱，能夠均勻的分布在基板上。

請參閱圖1和圖2，在減壓干燥過程中，為避免在抽氣時吸附到減壓干燥腔100(VCDchamber)內的雜質(Particle)，同時保證抽氣效果，減壓干燥設備抽氣的真空孔200既不能放在比基板300高的位置，又不放在基板300底下，只能放在基板300邊緣比基板300略低的位置。但將真空孔200放在基板300的邊緣進行抽氣時，基板300的邊緣靠近真空孔200，抽氣速度快，基板300的中間遠離真空孔200，抽氣速度慢，基板300的邊緣的抽氣速度和基板300的中間的抽氣速度的不一致又會導致基板300的邊緣和基板300的中間的溶劑含量不一致，進行宏觀檢查時就會發現基板300的邊緣和基板300的中間的顏色有差別，產生減壓干燥不良(VCD Mura)，同時在進行后續顯影制程時，由于基板300的邊緣和基板300的中間的溶劑含量不一致，又會導致基板300的邊緣線寬(Critical Dimesion，CD)小，基板300的中間線寬大，線寬均勻性(CD Uniformity)變差。

發明內容

本發明的目的在于提供一種減壓干燥設備，能夠提升光刻膠溶劑揮發的均一性，保證顯影制程的線寬的均勻性。

本發明的目的還在于提供一種減壓干燥方法，能夠提升光刻膠溶劑揮發的均一性，保證顯影制程的線寬的均勻性。

為實現上述目的，本發明提供了一種減壓干燥設備，包括：工作腔、工作臺、抽氣孔、進氣孔、以及進氣孔閥門；

所述工作臺設于所述工作腔內，所述工作臺的四角分別設有一抽氣孔，對應每一個抽氣孔均設有至少一個與該抽氣孔相鄰的進氣孔，每一個進氣孔上均設有一進氣孔閥門；

所述工作臺用于放置待干燥的基板，所述抽氣孔所在的平面高于所述工作臺的上表面且低于所述基板的上表面；

所述抽氣孔用于對所述工作腔進行抽氣降壓，所述進氣孔用于向所述工作腔通入保護氣，所述進氣孔閥門用于控制各個進氣孔的進氣流量。

對應每一個抽氣孔均設有與該抽氣孔相鄰的至少兩個進氣孔，所述至少兩個進氣孔與其所對應的抽氣孔之間的距離不同。