[發明專利]氧化鋯陶瓷的研磨方法

有效

• 申請號: 201710587814.3
• 申請日: 2017-07-18
• 公開（公告）號: CN109262373B
• 公開（公告）日: 2020-06-02
• 發明（設計）人: 張文杰;謝慶豐;彭毅萍
• 申請（專利權）人: 東莞華晶粉末冶金有限公司
• 主分類號: B24B1/00
• 分類號: B24B1/00;B24B19/22;B24B37/00;B24B29/02;C09K3/14
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 劉佩

1.一種氧化鋯陶瓷的研磨方法，其特征在于，包括以下步驟：

采用磨削液和金剛石砂輪對氧化鋯陶瓷進行磨削處理4min～6min，制備所述金剛石砂輪的材料包括金剛石磨料，所述金剛石磨料的粒徑為80μm～180μm；

采用氮化硼研磨液和鑄鐵盤對所述氧化鋯陶瓷進行粗磨處理5min～6min，所述氮化硼研磨液包括氮化硼微粉，所述氮化硼微粉的粒徑為45μm～65μm；

采用第一金剛石研磨液和第一銅盤對所述氧化鋯陶瓷進行中磨處理20min～30min；所述第一金剛石研磨液包括第一金剛石微粉，所述第一金剛石微粉的粒徑為3μm～9μm；

采用第二金剛石研磨液和第二銅盤對所述氧化鋯陶瓷進行精磨處理15min～25min；所述第二金剛石研磨液包括第二金剛石微粉，所述第二金剛石微粉的粒徑為0.5μm～3μm；及

采用拋光墊及拋光液對所述氧化鋯陶瓷進行拋光處理50min～70min，所述拋光處理至所述氧化鋯陶瓷的表面粗糙度Sa為1nm～5nm。

2.根據權利要求1所述的氧化鋯陶瓷的研磨方法，其特征在于，制備所述金剛石砂輪的材料還包括金屬結合劑及基體；所述金屬結合劑選自青銅結合劑和鑄鐵結合劑中的至少一種；所述基體選自鋼、合金鋼和鋁合金中的至少一種。

3.根據權利要求1所述的氧化鋯陶瓷的研磨方法，其特征在于，按質量份數計，所述氮化硼研磨液包括5份～30份的氮化硼微粉、1份～2份的分散劑、0.1份～1份的懸浮劑、0.1份～1份的防銹劑及50份～90份的水。

4.根據權利要求3所述的氧化鋯陶瓷的研磨方法啊，其特征在于，所述分散劑選自聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚和三乙醇胺中的至少一種；

及/或，所述懸浮劑選自聚丙烯酰胺、聚丙烯酸、聚丙烯酸鈉、丙三醇和甘二醇中的至少一種；

及/或，所述防銹劑選自二甲基甲酰胺、氮氮二甲基乙二胺、氮氮二甲基乙醇胺和氮氮二甲基乙酰胺中的至少一種。

5.根據權利要求1所述的氧化鋯陶瓷的研磨方法，其特征在于，所述鑄鐵盤的材料選自球墨鑄鐵、灰鑄鐵、白口鑄鐵、可鍛鑄鐵及合金鑄鐵中的至少一種。

6.根據權利要求1所述的氧化鋯陶瓷的研磨方法，其特征在于，按質量份數計，所述第一金剛石研磨液包括0.1份～10份的第一金剛石微粉、0.1份～20份的表面活性劑、0.1份～20份的分散劑、0.1份～10份的pH調節劑及40份～70份的油。

7.根據權利要求1所述的氧化鋯陶瓷的研磨方法，其特征在于，按質量份數計，所述第二金剛石研磨液包括0.1份～10份的第二金剛石微粉、0.1份～20份的表面活性劑、0.1份～20份的分散劑、0.1份～10份的pH調節劑及40份～70份的油。

8.根據權利要求1所述的氧化鋯陶瓷的研磨方法，其特征在于，按質量份數計，制備所述第一銅盤及所述第二銅盤的材料均包括40份～80份的銅粉、0.5份～5份的鎳粉、0.5份～5份的鈰粉及20份～60份的環氧樹脂。

9.根據權利要求1所述的氧化鋯陶瓷的研磨方法，其特征在于，所述拋光液選自氧化鋯拋光液、氧化鋁拋光液和氧化鈰拋光液中的至少一種；

及/或，拋光墊選自無紡布拋光墊、阻尼布拋光墊或聚氨酯拋光墊。