[發明專利]一種顯示基板及其制備方法、顯示面板

有效

• 申請號: 201710587789.9
• 申請日: 2017-07-18
• 公開（公告）號: CN107390926B
• 公開（公告）日: 2020-07-24
• 發明（設計）人: 吳守政;張青;許軍;黃甫升;劉同敏;張恒;邵吉;歐陽志剛;殷寶清;劉大鵬
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種顯示基板的制備方法，其特征在于，包括：

在襯底基板上形成多個第一遮光條、及與所述第一遮光條交叉的多個第二遮光條，以得到黑矩陣圖案；

在形成有所述黑矩陣圖案的襯底基板上形成多個第一觸控電極條，所述第一觸控電極條與所述第一遮光條在襯底基板上的正投影重疊；

在形成有所述多個第一觸控電極條的襯底基板上，形成覆蓋所述多個第一觸控電極條的第一絕緣層；

在形成有所述第一絕緣層的襯底基板上，形成多個第二觸控電極條，所述第二觸控電極條與所述第二遮光條在襯底基板上的正投影重疊；

在形成有所述多個第二觸控電極條的襯底基板上，形成覆蓋所述多個第二觸控電極條的第二絕緣層；

其中，所述多個第一遮光條和所述多個第一觸控電極條均采用第一掩模板曝光得到；所述多個第二遮光條和所述多個第二觸控電極條均采用第二掩模板曝光得到。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述在襯底基板上形成多個第一遮光條、及與所述第一遮光條交叉的多個第二遮光條，以得到黑矩陣圖案，包括：

在所述襯底基板上形成黑色遮光薄膜和光刻膠，分別利用所述第一掩模板和所述第二掩模板對所述光刻膠進行曝光，并經顯影、刻蝕、剝離工藝后形成所述黑矩陣圖案；

或者，

在所述襯底基板上形成黑色負性光刻膠薄膜，分別利用所述第一掩模板和所述第二掩模板對所述黑色負性光刻膠薄膜進行曝光，顯影后形成所述黑矩陣圖案。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，

所述在形成有所述多個第一觸控電極條的襯底基板上，形成覆蓋所述多個第一觸控電極條的第一絕緣層，包括：

所述第一絕緣層包括多個第一絕緣條，每個所述第一絕緣條覆蓋一個所述第一觸控電極條；

所述在形成有所述多個第二觸控電極條的襯底基板上，形成覆蓋所述多個第二觸控電極條的第二絕緣層，包括：

所述第二絕緣層包括多個第二絕緣條，每個所述第二絕緣條覆蓋一個所述第二觸控電極條。

4.一種顯示基板的制備方法，其特征在于，包括：

在襯底基板上形成多個第一遮光條、及與所述第一遮光條交叉的多個第二遮光條，以得到黑矩陣圖案；

在形成有所述黑矩陣圖案的襯底基板上形成多個第一觸控電極條；

在形成有所述多個第一觸控電極條的襯底基板上形成第一絕緣層，所述第一絕緣層包括多個第一絕緣條，所述第一絕緣條與所述第一遮光條在襯底基板上的正投影重疊；

在形成有所述第一絕緣層的襯底基板上形成多個第二觸控電極條；

在形成有所述多個第二觸控電極條的襯底基板上形成第二絕緣層，所述第二絕緣層包括多個第二絕緣條，所述第二絕緣條與所述第二遮光條在襯底基板上的正投影重疊；

其中，所述多個第一遮光條和所述第一絕緣層均采用第一掩模板曝光得到；所述多個第二遮光條和所述第二絕緣層均采用第二掩模板曝光得到；

每個所述第一絕緣條覆蓋一個所述第一觸控電極條；每個所述第二絕緣條覆蓋一個所述第二觸控電極條。

5.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述在襯底基板上形成多個第一遮光條、及與所述第一遮光條交叉的多個第二遮光條，以得到黑矩陣圖案，包括：

在所述襯底基板上形成黑色遮光薄膜和光刻膠，分別利用所述第一掩模板和所述第二掩模板對所述光刻膠進行曝光，并經顯影、刻蝕、剝離工藝后形成所述黑矩陣圖案；

或者，

在所述襯底基板上形成黑色負性光刻膠薄膜，分別利用所述第一掩模板和所述第二掩模板對所述黑色負性光刻膠薄膜進行曝光，顯影后形成所述黑矩陣圖案。