[發明專利]電子照相感光體、其制造方法及電子照相圖像形成裝置在審
| 申請號: | 201710583299.1 | 申請日: | 2017-07-18 |
| 公開(公告)號: | CN107643659A | 公開(公告)日: | 2018-01-30 |
| 發明(設計)人: | 上田麻理;藤田俊行;堀口治男 | 申請(專利權)人: | 柯尼卡美能達株式會社 |
| 主分類號: | G03G5/147 | 分類號: | G03G5/147 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所11038 | 代理人: | 賈成功 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電子 照相 感光 制造 方法 圖像 形成 裝置 | ||
1.一種電子照相感光體,是在導電性支承體上至少將感光層和表面保護層依次層疊的電子照相感光體,其特征在于,
所述表面保護層含有組合物的固化物,所述組合物含有聚合性化合物、電荷傳輸劑和聚合引發劑,
作為所述聚合引發劑,至少含有酰基氧化膦和O-酰基肟這2種。
2.權利要求1所述的電子照相感光體,其特征在于,所述O-酰基肟的聚合引發劑的結構由下述通式(1)表示:
通式(1)
通式(1)中,R1和R2為選自由氫原子、可具有取代基的碳數1~6的烷基、可具有取代基的碳數3~6的環烷基和可具有取代基的芳基組成的組中的基團;R3為選自由氫原子、鹵素原子、氰基、硝基、羥基、可具有取代基的碳數1~6的烷基、可具有取代基的碳數1~6的烷氧基、可具有取代基的芳基和可具有取代基的羰基組成的組中的基團。
3.權利要求1所述的電子照相感光體,其特征在于,在將所述酰基氧化膦的添加量設為A、將所述O-酰基肟的添加量設為B時,A與B之比為3:7~8:2的范圍內。
4.權利要求1所述的電子照相感光體,其特征在于,在所述電荷傳輸劑的分光吸收光譜中極大吸收波長在405±50nm的范圍內。
5.權利要求1所述的電子照相感光體,其特征在于,在所述表面保護層中含有金屬氧化物粒子。
6.權利要求5所述的電子照相感光體,其特征在于,所述金屬氧化物粒子具有反應性有機基團。
7.一種電子照相感光體的制造方法,是在導電性支承體上至少將感光層和表面保護層依次層疊的電子照相感光體的制造方法,其特征在于,
具有使含有聚合性化合物、電荷傳輸劑和聚合引發劑的組合物固化而形成所述表面保護層的工序,
作為所述聚合引發劑,至少含有酰基氧化膦和O-酰基肟這2種。
8.權利要求7所述的電子照相感光體的制造方法,其特征在于,所述O-酰基肟的聚合引發劑的結構由下述通式(1)表示:
通式(1)
通式(1)中,R1和R2為選自由氫原子、可具有取代基的碳數1~6的烷基、可具有取代基的碳數3~6的環烷基和可具有取代基的芳基組成的組中的基團,R3為選自由氫原子、鹵素原子、氰基、硝基、羥基、可具有取代基的碳數1~6的烷基、可具有取代基的碳數1~6的烷氧基、可具有取代基的芳基和可具有取代基的羰基組成的組中的基團。
9.權利要求7所述的電子照相感光體的制造方法,其特征在于,在將所述酰基氧化膦的添加量設為A、將所述O-酰基肟的添加量設為B時,A與B之比為3:7~8:2的范圍內。
10.權利要求7所述的電子照相感光體的制造方法,其特征在于,在所述電荷傳輸劑的分光吸收光譜中極大吸收波長在405±50nm的范圍內。
11.權利要求7所述的電子照相感光體的制造方法,其特征在于,在所述表面保護層中含有金屬氧化物粒子。
12.權利要求11所述的電子照相感光體的制造方法,其特征在于,所述金屬氧化物粒子具有反應性有機基團。
13.一種電子照相圖像形成裝置,是至少具有使電子照相感光體帶電的帶電部、曝光部、顯影部和轉印部的電子照相圖像形成裝置,其特征在于,
所述電子照相感光體為權利要求1-6的任一項所述的電子照相感光體。
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