[發明專利]曝光機及遮光葉片

有效

• 申請號: 201710583019.7
• 申請日: 2017-07-17
• 公開（公告）號: CN107219729B
• 公開（公告）日: 2018-10-26
• 發明（設計）人: 王維;林明文;江敏成;許俊安;熊定;蔡在秉
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 深圳市德力知識產權代理事務所 44265
• 代理人: 林才桂

本發明提供一種曝光機及遮光葉片。該曝光機通過在第一前遮光葉片的豎直部中設置開口，使得第一前遮光葉片移動時空氣可通過所述開口流動，進而減少第一前遮光葉片移動時第一前遮光葉片與光罩保護膜之間的氣壓下降，避免光罩保護膜被刮蹭，并通過在所述開口的頂部和側部設置遮光板，避免曝光所用的紫外光從所述開口泄漏出去，保證第一前遮光葉片的遮光效果和曝光機的曝光效果，防止圖形異常。

技術領域

本發明涉及顯示器制作技術領域，尤其涉及一種曝光機及遮光葉片。

背景技術

在顯示技術領域，液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)與有機發光二極管顯示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板顯示器已經逐步取代CRT顯示器，廣泛的應用于液晶電視、手機、個人數字助理、數字相機、計算機屏幕或筆記本電腦屏幕等。

在液晶顯示器的Array制程等平板顯示器的制程過程中，經常會使用曝光機進行曝光制程，以圖案化相應的膜層。現有的曝光機一般包括：光罩載臺、對應光罩載臺設置的光源、設于所述光罩載臺下方的放大光路、設于所述放大光路下方的基板載臺、設于所述光罩載臺與放大光路之間的第一遮光葉片(Y masking blade)以及設于所述基板載臺與放大光路之間的第二遮光葉片(X masking blade)，在曝光前第一遮光葉片與第二遮光葉片會移動到曝光程序(Recipe)設定的位置，遮擋出曝光程序設定的曝光區域，避免已涂布成膜(Coating)的基板其他區域被曝光，導致圖形缺失。

如圖1所示，現有的曝光機中設有沿水平方向相對設置的第一前遮光葉片101(Ymasking blade Front)和第一后遮光葉片102(Y masking blade Rear)，所述第一前遮光葉片101和第一后遮光葉片102均位于光罩載臺200的下方，工作時，光罩300設于所述光罩載臺200靠近所述第一前遮光葉片101和第一后遮光葉片102的一側，且所述光罩300遠離所述光罩載臺200的一側設有光罩保護膜400(mask pellicle)。由于光罩保護膜400的底部與第一前遮光葉片101和第一后遮光葉片102的頂部距離極小(通常為3mm)，在第一前遮光葉片101和第一后遮光葉片102運動時可能會引起光罩保護膜400與第一前遮光葉片101和第一后遮光葉片102之間的氣壓減小，進而導致光罩保護膜400向下彎曲刮蹭到所述第一前遮光葉片101和第一后遮光葉片102的頂部，導致光罩保護膜400損壞，影響曝光制程質量。尤其是在所述曝光機進行光罩光學自動對焦傳感器校正(mask OPAF sensor calibration)時，第一前遮光葉片101需要快速移動到第一后遮光葉片102的一側，這種大范圍的快速移動導致的氣壓下降很大，光罩保護膜400向下彎曲也更嚴重，出現刮蹭的風險也越大。

發明內容

本發明的目的在于提供一種曝光機，能夠減少第一前遮光葉片移動時第一前遮光葉片與光罩保護膜之間的氣壓下降，避免光罩保護膜被刮蹭，保證曝光質量。

本發明的目的還在于提供一種遮光葉片，能夠減少遮光葉片移動時遮光葉片與光罩保護膜之間的氣壓下降，避免光罩保護膜被刮蹭，保證曝光質量。

為實現上述目的，本發明提供了一種曝光機，包括：光罩載臺、光罩、光罩保護膜、第一前遮光葉片及第一后遮光葉片；

所述光罩設于所述光罩載臺的下方，所述光罩保護膜遮擋所述光罩遠離所述光罩載臺的一側表面，所述第一前遮光葉片及第一后遮光葉片位于所述光罩保護膜遠離所述光罩的一側并與所述光罩保護膜間隔，且所述第一前遮光葉片及第一后遮光葉片沿水平方向相對設置；

所述第一前遮光葉片包括：豎直部、與所述豎直部的底邊相連并往遠離所述第一后遮光葉片的一側延伸的第一水平部以及與所述豎直部的頂邊相連并往靠近所述第一后遮光葉片的一側延伸的第二水平部，所述豎直部上設有開口，所述開口的頂部及側部均設有遮光片。