[發(fā)明專利]一種高性能低熱膨脹系數(shù)聚酰亞胺薄膜的制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710582759.9 | 申請(qǐng)日: | 2017-07-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107286653A | 公開(公告)日: | 2017-10-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳天華;孫善衛(wèi);史恩臺(tái) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 安徽國(guó)風(fēng)塑業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C08L79/08 | 分類號(hào): | C08L79/08;C08K9/06;C08K3/36;C08J5/18;C08G73/10 |
| 代理公司: | 合肥天明專利事務(wù)所(普通合伙)34115 | 代理人: | 黃少波,袁由茂 |
| 地址: | 230088 安徽省合肥*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 性能 低熱 膨脹系數(shù) 聚酰亞胺 薄膜 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及薄膜制備領(lǐng)域,特別涉及一種高性能低熱膨脹系數(shù)聚酰亞胺薄膜的制備方法。
背景技術(shù)
聚酰亞胺是高分子主鏈上含有酰亞胺環(huán)(-CO-NH-CO)的一類化學(xué)結(jié)構(gòu)高度規(guī)整聚合物。它特殊的酰亞胺環(huán)結(jié)構(gòu)使其具有優(yōu)異的機(jī)械、熱性能、介電、力學(xué)、耐輻射以及耐溶劑等性能,被廣泛用于航空、航天、微電子、汽車工業(yè)等領(lǐng)域。隨著電子產(chǎn)品向著輕薄化、微型化快速發(fā)展,在柔性電路板上作為基膜時(shí),對(duì)薄膜的力學(xué)性能、尺寸穩(wěn)定性要求越來越高。
普通的聚酰亞胺薄膜要求由二元酐和二元胺合成拉膜制得,原材料豐富,合成相對(duì)簡(jiǎn)單。二元酐、二元胺品種多,不同組合就可以獲得不同性能的聚酰亞胺,目前現(xiàn)有方法所制備的普通的聚酰亞胺薄膜的熱膨脹系數(shù)一般在45-60ppm/℃之間,相對(duì)于銅箔的熱膨脹系數(shù)16-17ppm/℃則太高,不利于薄膜銅箔貼合后尺寸的穩(wěn)定。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種高性能低熱膨脹系數(shù)聚酰亞胺薄膜的制備方法,制備得到的聚酰亞胺薄膜具有低熱膨脹系數(shù)、優(yōu)秀的力學(xué)性能和優(yōu)異的電氣性能。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用了以下技術(shù)方案:
一種高性能低熱膨脹系數(shù)聚酰亞胺薄膜的制備方法,包括以下步驟:
(1)在60-80℃條件下,將納米SiO2和硅烷偶聯(lián)劑加入到二甲基甲酰胺溶液中,通過超聲分散30-90分鐘,制得均勻的溶液A;
(2)在20-40℃條件下,將聯(lián)苯四甲酸二酐和4,4’-二氨基二苯醚置于溶液A中進(jìn)行原位聚合反應(yīng),所述聯(lián)苯四甲酸二酐和4,4’-二氨基二苯醚的摩爾比為0.992:1-0.998:1;進(jìn)行上述原位聚合反應(yīng)時(shí),先將4,4’-二氨基二苯醚溶解于溶液A中,然后分四次加入聯(lián)苯四甲酸二酐,在添加聯(lián)苯四甲酸二酐的過程中,相鄰兩次添加的時(shí)間間隔30-60分鐘,且前三次添加中每次添加量均占余量的50%-65%,待聯(lián)苯四甲酸二酐添加結(jié)束后,再反應(yīng)60-90分鐘,得到固含量在15-25wt%的聚酰胺酸溶液B;
(3)在20-40℃條件下,將均苯四甲酸二酐和對(duì)苯二胺置于溶液A中進(jìn)行原位聚合反應(yīng),所述對(duì)苯二胺和均苯四甲酸二酐的摩爾比為0.992:1-0.998:1,進(jìn)行上述原位聚合反應(yīng)時(shí),先將對(duì)苯二胺溶解于溶液A中,然后分四次加入均苯四甲酸二酐,在添加均苯四甲酸二酐的過程中,相鄰兩次添加的時(shí)間間隔30-60分鐘,且前三次添加中每次添加量均占余量的50%-65%,待均苯四甲酸二酐添加結(jié)束后,再反應(yīng)60-90分鐘,得到固含量在15-25wt%的聚酰胺酸溶液C;
(4)將聚酰胺酸溶液B和聚酰胺酸溶液C按重量比例1:1.5-1:2.0的比例混合在一起,然后在35-40℃條件下高速攪拌30-60分鐘得到聚酰胺酸溶液D;
(5)在20-35℃條件下,向聚酰胺酸溶液D中添加均苯四甲酸二酐至產(chǎn)生爬桿效應(yīng),將聚酰胺酸溶液D的旋轉(zhuǎn)粘度控制在2000-4000P;
(6)將聚酰胺酸溶液D進(jìn)行脫泡處理,將脫泡后的溶液流延到鋼板支撐體上,以10-20℃/分鐘的加熱速率加熱至110-140℃得到凝膠膜,再將凝膠膜送進(jìn)亞胺化爐進(jìn)行雙向拉伸和亞胺化反應(yīng),最后熱定型得到聚酰亞胺薄膜。
進(jìn)一步,所述納米SiO2的粒徑為15-80nm,所述納米SiO2的添加量占制得的聚酰亞胺薄膜的5-15wt%。
進(jìn)一步,所述硅烷偶聯(lián)劑的添加量占制得的聚酰亞胺薄膜的1-5wt%。
進(jìn)一步,所述步驟(6)中雙向拉伸的溫度為150-200℃,橫向拉伸與縱向拉伸的拉伸比為1.1-1.5,亞胺化反應(yīng)溫度為350-450℃,時(shí)間為2.5-4分鐘;熱定型溫度為200-250℃,時(shí)間為2-3分鐘。
本發(fā)明具備以下有益效果:
1、本發(fā)明的填料增加了納米SiO2,納米SiO2是目前所知熱膨脹系數(shù)最小的材料之一,將其引入到聚酰亞胺薄膜中,可以降低雜化材料的熱膨脹系數(shù),并提高聚酰亞胺的熱穩(wěn)定性。
2、同時(shí),本發(fā)明的填料還增加了硅烷偶聯(lián)劑作為表面處理劑,由于無(wú)機(jī)納米SiO2與有機(jī)的聚酰亞胺互不相容,本發(fā)明采用表面處理劑對(duì)納米SiO2進(jìn)行表面活化處理,使合成的聚酰亞胺薄膜具有更好的力學(xué)性能和更低的熱膨脹系數(shù)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于安徽國(guó)風(fēng)塑業(yè)股份有限公司,未經(jīng)安徽國(guó)風(fēng)塑業(yè)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710582759.9/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
- 帶有熱應(yīng)力釋放裝置的微型芯片
- 一種引線框架片材熱膨脹系數(shù)的測(cè)量方法及測(cè)量裝置
- 制造熱膨脹系數(shù)局部適應(yīng)的異質(zhì)結(jié)構(gòu)的方法
- 一種全級(jí)配大骨料混凝土硬化階段熱膨脹系數(shù)預(yù)測(cè)模型的構(gòu)建方法
- 印刷電路板至模制化合物的接合部
- 具有低翹曲度的封裝結(jié)構(gòu)
- 一種有機(jī)發(fā)光顯示面板及其制作方法
- 一種硬化混凝土熱膨脹系數(shù)的多尺度預(yù)測(cè)方法
- 印刷電路板至模制化合物的接合部
- 包含至少部分瓷制的基底、裝飾物和熱膨脹梯度緩沖物的制品以及這種制品的制造方法





