[發明專利]一種化學機械拋光液在審
| 申請號： | 201710577413.X | 申請日： | 2017-07-14 |
| 公開（公告）號： | CN107286852A | 公開（公告）日： | 2017-10-24 |
| 發明（設計）人： | 徐志國;王良詠;李彥軍;徐宇恒 | 申請（專利權）人： | 浙江晶圣美納米科技有限公司 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 312300 浙江省杭*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 化學 機械拋光 | ||
【權利要求書】：
1.一種化學機械拋光液，此拋光液包含：
⑴納米磨料；
⑵鄰苯二酚；
⑶含水載體；
其中，所述的納米磨料選自膠體二氧化硅、燒結二氧化硅以及α-氧化鋁。
2.根據權利要求1所述的一種化學機械拋光液，其特征在于，所述納米磨料的重量百分含量為0.01-50.0wt％，優選0.5-45wt％。
3.根據權利要求1所述的一種化學機械拋光液，其特征在于，所述鄰苯二酚的重量百分含量為0.005-6wt％，優選0.01-3wt％。
4.根據權利要求1所述的一種化學機械拋光液，其特征在于，所述含水載體包含pH調節劑、殺菌劑、緩蝕劑和消泡劑。
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