[發明專利]制備高比表面積的光刻膠-石墨烯材料的復合體系的方法

有效

• 申請號: 201710576149.8
• 申請日: 2017-07-14
• 公開（公告）號: CN107367905B
• 公開（公告）日: 2019-04-12
• 發明（設計）人: 鄒應全;薛兵
• 申請（專利權）人: 北京師范大學
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/40;G03F7/42;C01B32/182
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 李小梅;劉金輝

1.一種制備光刻膠-石墨烯材料的復合體系的方法，其包括：

1)提供包含石墨烯材料和光刻膠的混合物；

2)采用掩模圖形版對由步驟1)得到的混合物進行曝光；和

3)用顯影液處理由步驟2)得到的曝光的材料以除去未交聯部分，得到光刻膠-石墨烯材料的復合體系，

其中所述石墨烯材料為氧化石墨烯。

2.根據權利要求1的制備光刻膠-石墨烯材料的復合體系的方法，其中所述石墨烯材料的平均片徑為0.5-35微米。

3.根據權利要求2的制備光刻膠-石墨烯材料的復合體系的方法，其中所述石墨烯材料的平均片徑為5-25微米。

4.根據權利要求1的制備光刻膠-石墨烯材料的復合體系的方法，其中在步驟1)中基于包含石墨烯材料和光刻膠的混合物的總重量，石墨烯材料以0.01-3重量％的量存在。

5.根據權利要求2的制備光刻膠-石墨烯材料的復合體系的方法，其中在步驟1)中基于包含石墨烯材料和光刻膠的混合物的總重量，石墨烯材料以0.01-3重量％的量存在。

6.根據權利要求4的制備光刻膠-石墨烯材料的復合體系的方法，其中在步驟1)中基于包含石墨烯材料和光刻膠的混合物的總重量，石墨烯材料以0.03-2重量％的量存在。

7.根據權利要求1-6中任一項的制備光刻膠-石墨烯材料的復合體系的方法，其中在將石墨烯材料和光刻膠混合之前，首先將石墨烯材料分散于溶劑中。

8.根據權利要求7的制備光刻膠-石墨烯材料的復合體系的方法，其中所述溶劑選自C₁-C₆鏈烷醇、具有2-6個碳原子的二醇、具有2-6個碳原子的二醇的單-或二-C₁-C₄烷基醚、具有2-6個碳原子的二醇的單-C₁-C₄烷基醚C₁-C₄羧酸酯、具有3-7個碳原子的酮類、二甲亞砜、N,N-二甲基甲酰胺、γ-丁內酯、四氫呋喃、N-甲基吡咯烷酮和雙丙酮醇。

9.根據權利要求8的制備光刻膠-石墨烯材料的復合體系的方法，其中所述溶劑選自乙醇、乙二醇、丙酮、環戊酮、環己酮、丙二醇甲醚醋酸酯、二甲亞砜、N,N-二甲基甲酰胺、γ-丁內酯、四氫呋喃、N-甲基吡咯烷酮和雙丙酮醇。

10.根據權利要求1-6中任一項的制備光刻膠-石墨烯材料的復合體系的方法，其中步驟1)中的光刻膠為環氧光刻膠。

11.根據權利要求10的制備光刻膠-石墨烯材料的復合體系的方法，其中步驟1)中的光刻膠為陽離子環氧光刻膠。

12.根據權利要求11的制備光刻膠-石墨烯材料的復合體系的方法，其中所述陽離子環氧光刻膠包含一種或多種選自下列的可光聚合單體：雙酚二縮水甘油醚(I)、四氫鄰苯二甲酸二縮水甘油酯(II)、4,4’－二氨基二苯甲烷四縮水甘油環氧單體(III)、己二酸雙(3,4-環氧環己基甲基)酯(IV)：

13.根據權利要求1-6中任一項的制備光刻膠-石墨烯材料的復合體系的方法，其中步驟1)中的光刻膠包含一種或多種光致產酸劑。

14.根據權利要求13的制備光刻膠-石墨烯材料的復合體系的方法，其中所述光致產酸劑選自碘鎓鹽、硫鎓鹽和雜環類產酸劑。