[發明專利]用于光刻曝光系統的光源布置和光刻曝光系統

在審

• 申請號: 201710575782.5
• 申請日: 2017-07-14
• 公開（公告）號: CN107621755A
• 公開（公告）日: 2018-01-23
• 發明（設計）人: 保羅·凱撒
• 申請（專利權）人: 蘇斯微技術光刻有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司11332
• 代理人: 王小衡,王天鵬

1.一種用于光刻曝光系統的光源布置，具有：不同波長的至少三個光源(18、20、22)；以及分束單元(16)，其包括至少三個輸入(E₁₈、E₂₀、E₂₂)、輸出(A)以及至少兩個反射面(R₂₀、R₂₂)，其中輸入(E₁₈、E₂₀、E₂₂)被分配給每個光源(18、20、22)和每個反射面(R₂₀、R₂₂)，其中，所述反射面(R₂₀、R₂₂)將從被分配給其對應輸入(E₂₀、E₂₂)的光源(20、22)所發射的光反射到所述輸出(A)中，并且其中所述三個光源(18、20、22)被布置在所述分束單元(16)周圍的三個不同的側上。

2.根據權利要求1所述的光源布置，其特征在于，所述光源(18、20、22)發射具有波長小于500nm、特別是波長小于450nm的光。

3.根據權利要求1所述的光源布置，其特征在于，所述光源(18、20、22)的至少一個的波長對應于汞蒸汽燈的發射光譜的i線、h線或g線。

4.根據權利要求1所述的光源布置，其特征在于，所述光源(18、20、22)包括一個或多個LED和/或LED陣列。

5.根據權利要求1所述的光源布置，其特征在于，所述分束單元(16)包括兩個分束板(28、30)，它們彼此垂直布置，并與所述光源(18、20、22)的光軸形成角度特別是約45°的角度。

6.根據權利要求5所述的光源布置，其特征在于，每個分束板(28、30)的至少一個表面形成所述分束單元(16)的反射面(R₂₀、R₂₂)，其中所述表面面向所述對應輸入(E₂₀、E₂₂)和所述輸出(A)或者與其相對。

7.根據權利要求5所述的光源布置，其特征在于，所述表面設置有波長選擇性反射涂層，其將所述對應光源(20、22)的光反射至至少50％、優選地至少75％、更優選地至少90％，并且對從其他光源(18、20、22)發射的光基本上是透明的。

8.根據權利要求1所述的光源布置，其中所述分束單元(16)由X立方體形成。

9.根據權利要求1所述的光源布置，其中所述分束單元(16)由四個棱鏡的布置形成。

10.根據權利要求9所述的光源布置，其中所述棱鏡以整個布置包括矩形橫截面的方式被布置。

11.根據權利要求9所述的光源布置，其中所述棱鏡的表面設置有波長選擇性反射涂層。

12.根據權利要求1所述的光源布置，其特征在于，相對輸入(E₂₀、E₂₂)的光軸是同軸的并且/或者所述輸出(A)的光軸和與其相對的輸入(E₁₆)的光軸是同軸的。

13.一種光刻曝光系統，包括權利要求1所述的光源布置(12)。

14.根據權利要求13所述的光刻曝光系統，其特征在于，所述光刻曝光系統(10)包括被布置在所述分束單元(16)的輸出側的集成光學器件(17)。

15.根據權利要求13所述的光刻曝光系統，其特征在于，所述光刻曝光系統(10)包括至少三個集成光學器件(17.1、17.2、17.3)，其分別被布置在所述分束單元(16)和所述光源(18、20、22)之一之間。