[發明專利]氧化物去除用洗滌組合物及利用該組合物的洗滌方法

在審

• 申請號: 201710574986.7
• 申請日: 2017-07-14
• 公開（公告）號: CN107619728A
• 公開（公告）日: 2018-01-23
• 發明（設計）人: 文英慜;任星淳;文敏浩;黃圭煥;金炳默;金相泰;金祐逸;房淳洪;林大成
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司;東友精細化工有限公司
• 主分類號: C11D7/26
• 分類號: C11D7/26;C11D7/34;C11D7/32;C11D7/60;B08B3/08
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司11286
• 代理人: 孫昌浩,李盛泉

1.一種氧化物去除用洗滌組合物，包含：

二羧酸化合物；

含硫化合物；

有機胺化合物；以及

水。

2.如權利要求1所述的氧化物去除用洗滌組合物，其中，所述二羧酸化合物包括草酸。

3.如權利要求1所述的氧化物去除用洗滌組合物，其中，以所述氧化物去除用洗滌組合物100重量％為基準，所述二羧酸化合物的含量范圍為0.01重量％至1重量％。

4.如權利要求1所述的氧化物去除用洗滌組合物，其中，所述含硫化合物包括：

1-硫代甘油、二硫代甘油、2-巰基乙醇、3-巰基-1-丙醇、巰基乙酸、硫代乙酸、硫代水楊酸、二(2,3-二羥基丙巰基)乙烯、或者其任意組合。

5.如權利要求1所述的氧化物去除用洗滌組合物，其中，以所述氧化物去除用洗滌組合物100重量％為基準，所述含硫化合物的含量范圍為0.01重量％至1.5重量％。

6.如權利要求1所述的氧化物去除用洗滌組合物，其中，所述有機胺化合物包括：

一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、一丙醇胺、二丙醇胺、三丙醇胺、單異丙醇胺、二異丙醇胺、三異丙醇胺、2-(2-氨基乙氧基)乙醇、N,N-二甲基乙醇胺、N,N-二乙基乙醇胺、N,N-二丙基乙醇胺、N,N-二丁基乙醇胺、N-甲基乙醇胺、N-乙基乙醇胺、N-丙基乙醇胺、N-丁基乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、或者其任意組合。

7.如權利要求1所述的氧化物去除用洗滌組合物，其中，以所述氧化物去除用洗滌組合物100重量％為基準，所述有機胺化合物的含量范圍為0.01重量％至1重量％。

8.如權利要求1所述的氧化物去除用洗滌組合物，其中，以所述氧化物去除用洗滌組合物100重量％為基準，

所述二羧酸化合物的含量范圍為0.01重量％至1重量％；

所述含硫化合物的含量范圍為0.01重量％至1.5重量％；

所述有機胺化合物的含量范圍為0.01重量％至1重量％。

9.如權利要求1所述的氧化物去除用洗滌組合物，其中，以所述氧化物去除用洗滌組合物100重量％為基準，

所述二羧酸化合物的含量范圍為0.02重量％至0.7重量％；

所述含硫化合物的含量范圍為0.04重量％至1.1重量％；

所述有機胺化合物的含量范圍為0.02重量％至0.7重量％。

10.如權利要求1所述的氧化物去除用洗滌組合物，其中，所述氧化物去除用洗滌組合物的pH范圍為2.5至5.5。

11.一種洗滌方法，包括如下步驟：

準備具有氧化物的掩膜基材；以及

第一洗滌步驟，通過使如權利要求1至10中的任意一項所述的氧化物去除用洗滌組合物接觸到所述掩膜基材而去除所述掩膜基材中的氧化物。

12.如權利要求11所述的洗滌方法，其中，所述掩膜基材包含從鐵、鈷、鉻、錳、鎳、鈦、鉬、SUS合金、Inconel合金、Kovar合金以及Invar合金中選擇的至少一種金屬。

13.如權利要求11所述的洗滌方法，其中，所述氧化物在對所述掩膜基材照射激光時自然形成。

14.如權利要求11所述的洗滌方法，其中，所述第一洗滌步驟以如下方式執行：

利用噴射法、旋涂法或浸泡法而使所述氧化物去除用組合物與所述掩膜基材接觸。

15.如權利要求11所述的洗滌方法，其中，所述第一洗滌步驟以如下方式執行：

利用浸泡法而在20℃至60℃的溫度范圍以及1分鐘至360分鐘的時間范圍內執行。

16.如權利要求11所述的洗滌方法，其中，在所述第一洗滌步驟之后，還包括如下步驟中的至少一個步驟：

第二洗滌步驟，使用蒸餾水而洗滌所述掩膜基材；以及

第三洗滌步驟，使用第一醇而洗滌所述掩膜基材。

17.如權利要求16所述的洗滌方法，其中，所述第一醇包括：

甲醇、乙醇、戊醇、2-甲基-2-丁醇、3-甲基-2-丁醇、正丙醇、異丙醇、丁醇、異丁醇、2-丁醇、2-甲基-2-丙醇、己醇、環己醇、芐醇、丙醇、乙二醇、丙二醇、二甘醇、甘油、二丙二醇、或者其任意組合。