[發明專利]一種反應堆下腔室冷卻劑攪混及均流裝置

有效

• 申請號: 201710574704.3
• 申請日: 2017-07-14
• 公開（公告）號: CN107170490B
• 公開（公告）日: 2023-07-04
• 發明（設計）人: 李文強;李飛;李彥;韓懷邦;趙玉東;劉啟虞;李松;冉仁杰
• 申請（專利權）人: 中國核動力研究設計院
• 主分類號: G21C15/02
• 分類號: G21C15/02
• 代理公司: 成都金英專利代理事務所(普通合伙) 51218
• 代理人: 袁英

1.一種反應堆下腔室冷卻劑攪混及均流裝置，它包括壓力容器（1）、吊籃（2）、堆芯下支承板（3），所述吊籃（2）的下端焊接在堆芯下支承板（3）的上方，吊籃（2）與壓力容器（1）之間形成有環形下降腔（4），其特征在于：它還包括設置于壓力容器（1）的下腔室（18）內的二次支承及流量分配組件，所述的二次支承及流量分配組件包括二次支承柱（5）、能量吸收器（6）、流量分配板（7）、中間連接板（8）和基礎連接板（9），所述流量分配板（7）由若干塊等厚度的曲面板（10）相互交錯而圍成，相鄰曲面板（10）之間圍成流水孔（11），流量分配板（7）的正中心開設有中心孔（12），流量分配板（7）上還設有繞中心孔（12）分布的連接柱（13），流量分配板（7）經連接柱（13）固連于堆芯下支承板（3）下方，所述基礎連接板（9）與下腔室（18）底部之間留有間隙，基礎連接板（9）的上部設置有多個能量吸收器（6），中間連接板（8）設置于能量吸收器（6）的頂部，中間連接板（8）的頂部設置有多根二次支承柱（5），二次支承柱（5）的另一端由下往上貫穿流量分配板（7）且固連于堆芯下支承板（3）底部。

2.根據權利要求1所述的一種反應堆下腔室冷卻劑攪混及均流裝置，其特征在于：所述的二次支承柱（5）的截面為Y字形、十字形或X形。

3.根據權利要求2所述的一種反應堆下腔室冷卻劑攪混及均流裝置，其特征在于：所述的二次支承柱（5）的叉板（14）上開設有通水孔（19），所述通水孔（19）為圓形、橢圓形或多邊形。

4.根據權利要求2所述的一種反應堆下腔室冷卻劑攪混及均流裝置，其特征在于：所述的二次支承柱（5）的叉板（14）的外端面為圓弧形。

5.根據權利要求2所述的一種反應堆下腔室冷卻劑攪混及均流裝置，其特征在于：所述的二次支承柱（5）的上下端均固連有連接盤（15），連接盤（15）端面上開設有螺栓連接孔（16），其中一個連接盤（15）經螺釘穿過螺栓連接孔（16）且與堆芯下支承板（3）螺紋連接，另一個連接盤（15）經螺栓穿過螺栓連接孔（16）且與中間連接板（8）螺紋連接。

6.根據權利要求1所述的一種反應堆下腔室冷卻劑攪混及均流裝置，其特征在于：所述流量分配板（7）的外徑為下腔室（18）半徑的1~2倍，流量分配板（7）的厚度為下腔室（18）半徑的0.05~0.2倍，流量分配板（7）與堆芯下支承板（3）之間的距離為下腔室（18）半徑的0.08~0.2倍。

7.根據權利要求1所述的一種反應堆下腔室冷卻劑攪混及均流裝置，其特征在于：所述的流量分配板（7）上還設有繞中心孔（12）分布的支承柱過孔（17），所述的二次支承柱（5）貫穿支承柱過孔（17）設置。