[發明專利]一種硼化鉭生物涂層及其制備方法與應用

有效

• 申請號: 201710574080.5
• 申請日: 2017-07-14
• 公開（公告）號: CN107583107B
• 公開（公告）日: 2020-08-07
• 發明（設計）人: 張侃;秦彥國;劉貫聰;李瑞延;文懋;鄭偉濤
• 申請（專利權）人: 吉林大學
• 主分類號: A61L27/30
• 分類號: A61L27/30;A61L27/50;C23C14/06;C23C14/34;C23C14/35
• 代理公司: 杭州求是專利事務所有限公司 33200
• 代理人: 黃歡娣;邱啟旺

1.一種硼化鉭生物涂層，其特征在于，所述生物涂層包含富硼結構的硼化鉭，所述鉭和硼的摩爾比為3～5:6；

所述硼化鉭生物涂層的制備方法，基于多靶射頻磁控共濺射方法實現，濺射參數為：鉭靶材的濺射功率為30-90W，硼靶材的濺射功率范圍為200-400W，濺射總壓強為0.67-1.2Pa，沉積溫度為室溫～200℃，靶基距為60-100mm，濺射基底施加的電壓為0至-300V，濺射時間為90-180min后，即在濺射基底表面獲得硼化鉭生物涂層。

2.根據權利要求1所述的硼化鉭生物涂層，其特征在于，所述富硼結構的硼化鉭結構式為Ta₃B₄。

3.一種權利要求1所述硼化鉭生物涂層的制備方法，該方法基于多靶射頻磁控共濺射方法實現，其特征在于，濺射參數為：鉭靶材的濺射功率為30-90W，硼靶材的濺射功率范圍為200-400W，濺射總壓強為0.67-1.2Pa，沉積溫度為室溫～200℃，靶基距為60-100mm，濺射基底施加的電壓為0至-300V，濺射時間為90-180min后，即在濺射基底表面獲得硼化鉭生物涂層。

4.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，鉭靶材的功率為30-60W，硼靶材功率范圍為200-350W，濺射總壓強為0.8-1.0Pa，濺射基底施加的電壓為-40～-160V。

5.一種權利要求1所述硼化鉭生物涂層在醫用植入材料中的應用，其特征在于，該應用為：用于對醫用植入材料進行表面改性。

6.根據權利要求5所述的應用，其特征在于，所述硼化鉭生物涂層和醫用植入材料之間具有鉭金屬過渡層，鉭金屬過渡層中厚度為100-150nm。

7.根據權利要求6所述的應用，其特征在于，所述鉭金屬過渡層通過磁控濺射方法濺射在醫用植入材料表面，濺射條件為：在氬氣氣氛下，鉭靶材的濺射功率為200-300W，靶基距為60-100mm。

8.根據權利要求5所述的應用，其特征在于，所述硼化鉭生物涂層的厚度為500-2000nm。

9.根據權利要求5所述的應用，其特征在于，所述醫用植入材料為TiAlV、TiAlNb、TiAlZr、TiNbZr、TiAlTa、TiNbTa、TiNbZrTa合金中的一種。