[發明專利]一種顯示基板的蒸鍍裝置、蒸鍍設備及蒸鍍方法

在審

• 申請號: 201710571114.5
• 申請日: 2017-07-13
• 公開（公告）號: CN107190232A
• 公開（公告）日: 2017-09-22
• 發明（設計）人: 唐凡;陳永勝
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙)44280
• 代理人: 鐘子敏

1.一種顯示基板的蒸鍍裝置，用于向附著基板表面蒸鍍目標材料，其特征在于，其包括蒸鍍源、調控機構與掩模板；

其中，所述調控機構可將所述蒸鍍源噴射的入射角小于或等于預設入射角的蒸鍍粒子進行過濾，并使入射角大于所述預設入射角的所述蒸鍍粒子通過所述掩模板，且沉積在所述附著基板的目標位置,所述入射角為所述蒸鍍粒子的入射方向和與其對應的所述掩模板表面形成的銳角。

2.根據權利要求1所述的顯示基板的蒸鍍裝置，其特征在于，所述調控機構為一多孔板，所述多孔板上設有多個第一過孔，所述多孔板與所述蒸鍍源的間距為第一預設間距，所述多孔板與所述掩模板的間距為第二預設間距，所述掩模板與所述附著基板的間距為第三預設間距，所述第一預設間距、所述第二預設間距與所述第三預設間距可僅使入射角大于所述預設入射角的所述蒸鍍粒子通過所述第一過孔，且沉積在所述附著基板的目標位置。

3.根據權利要求2所述的顯示基板的蒸鍍裝置，其特征在于，還包括蒸鍍腔體，所述蒸鍍腔體為一真空封閉空間，所述蒸鍍源、所述多孔板與所述掩模板設于所述蒸鍍腔體內,并在蒸鍍方向上依次平行間隔地排列。

4.根據權利要求2所述的顯示基板的蒸鍍裝置，其特征在于，所述多孔板與所述掩模板之間的距離可調節，或所述蒸鍍源、所述多孔板與所述掩模板兩兩之間的距離可進行調節。

5.根據權利要求2所述的顯示基板的蒸鍍裝置，其特征在于，所述掩模板上設有多個第二過孔，所述第一過孔的孔徑大于所述第二過孔的孔徑，所述第一過孔的橫截面形狀為圓形、方形、梯形或棱形中的一種。

6.根據權利要求2所述的顯示基板的蒸鍍裝置，其特征在于，所述掩模板在所述附著基板上的投影位于所述多孔板在所述附著基板上的投影之內,或所述多孔板在所述附著基板上的投影位于所述掩模板在所述附著基板上的投影之內。

7.一種顯示基板的蒸鍍設備，其特征在于，其包括權利要求1～6任一項所述的顯示基板的蒸鍍裝置。

8.一種顯示基板的蒸鍍方法，其特征在于，包括：

提供一用于向附著基板表面蒸鍍目標材料的顯示基板的蒸鍍裝置，其包括蒸鍍源、調控機構與掩模板；

其中，所述調控機構可將所述蒸鍍源噴射的入射角小于或等于預設入射角的蒸鍍粒子進行過濾，并使入射角大于所述預設入射角的所述蒸鍍粒子通過所述掩模板，且沉積在所述附著基板的目標位置,所述入射角為所述蒸鍍粒子的入射方向和與其對應的所述掩模板表面形成的銳角；

使用所述蒸鍍裝置對所述附著基板進行蒸鍍操作，以在所述附著基板上形成預設圖案。

9.根據權利要求8所述的顯示基板的蒸鍍方法，其特征在于，所述調控機構為一多孔板，所述多孔板上設有多個第一過孔，所述第一過孔在蒸鍍過程中處于被加熱狀態，且所述第一過孔的溫度保持高于蒸鍍溫度。

10.根據權利要求9所述的顯示基板的蒸鍍方法，其特征在于，所述多孔板與所述掩模板之間的距離可調節，或所述蒸鍍源、所述多孔板與所述掩模板兩兩之間的距離可進行調節。