[發明專利]一種化學機械拋光液有效
| 申請號： | 201710569910.5 | 申請日： | 2017-07-13 |
| 公開（公告）號： | CN109251675B | 公開（公告）日： | 2021-07-30 |
| 發明（設計）人： | 李守田;尹先升;賈長征;王雨春 | 申請（專利權）人： | 安集微電子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律師事務所 11352 | 代理人： | 李佳銘;沈汶波 |
| 地址： | 201201 上海市浦東新區華東路*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 化學 機械拋光 | ||
【權利要求書】：
1.一種化學機械拋光液，包含氧化鈰磨料、聚季銨鹽及pH調節劑；
所述的聚季銨鹽選自聚季銨鹽-10。
2.如權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述氧化鈰磨料濃度為0.1wt％～2wt％。
3.如權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述的聚季銨鹽-10濃度為5ppm～150ppm。
4.如權利要求3所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述的聚季銨鹽-10濃度為50ppm-100ppm。
5.如權利要求1-4任一所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述的化學機械拋光液還包括有機酸類化合物。
6.如權利要求5所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述有機酸類化合物為吡啶甲酸和/或對羥基苯甲酸。
7.如權利要求5所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述有機酸類化合物濃度為500～800ppm。
8.如權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述化學機械拋光液的pH值為3.5-5.5。
9.如權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述pH調節劑為氫氧化鉀(KOH)和/或硝酸(HNO3)。
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