[發明專利]一種水測芯塊密度測量設備有效
| 申請號: | 201710569438.5 | 申請日: | 2017-07-13 |
| 公開(公告)號: | CN107356496B | 公開(公告)日: | 2018-11-20 |
| 發明(設計)人: | 周新志 | 申請(專利權)人: | 四川大學 |
| 主分類號: | G01N9/08 | 分類號: | G01N9/08 |
| 代理公司: | 四川力久律師事務所 51221 | 代理人: | 王蕓;熊曉果 |
| 地址: | 610065 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 水測芯塊 密度 測量 設備 | ||
1.一種水測芯塊密度測量設備,包括測量平臺,其特征在于,所述測量平臺上設有電子天平,所述電子天平上設有測量槽,所述測量槽內固定設置有兩個水平高度不一致的芯塊托架;在測量時,注入浸潤液時只需要浸沒水平高度較低的芯塊托架即可,未被浸沒的芯塊托架用于測量干重,被浸沒的芯塊托架用來測量濕重;所述測量平臺上設有干料盤和水槽,所述水槽內設有濕料盤,所述濕料盤的水平高度低于水槽的水平高度;所述干料盤和濕料盤上設有用于放置芯塊的V型槽;所述干料盤和濕料盤的位置固定,所述V型槽以固定的間隔平行設置在干料盤和濕料盤上,所述測量平臺內部設有控制系統,所述測量平臺上設有機械臂,所述機械臂與控制系統接通;所述測量平臺上和水槽內均設有若干個支架,所述支架上設有固定凹槽,所述干料盤和濕料盤底部設置有與固定凹槽適配的凸塊,所述干料盤和濕料盤固定在支架上。
2.根據權利要求1所述的水測芯塊密度測量設備,其特征在于,所述芯塊托架為V形條狀結構。
3.根據權利要求1所述的水測芯塊密度測量設備,其特征在于,所述測量平臺內設有儲水箱和水泵,所述儲水箱、水泵和水槽通過輸水管道接通。
4.根據權利要求3所述的水測芯塊密度測量設備,其特征在于,所述水泵為蠕動泵。
5.根據權利要求1所述的水測芯塊密度測量設備,其特征在于,所述機械臂包括固定端,主臂和次臂,所述固定端和主臂、主臂和次臂之間均為可轉動連接,所述次臂上設有機械爪,所述機械爪上設有紅外探測傳感器。
6.根據權利要求1所述的水測芯塊密度測量設備,其特征在于,所述測量平臺底部設有可伸縮支柱和腳輪。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于四川大學,未經四川大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710569438.5/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種罐式污水處理裝置
- 下一篇:一種污水處理池





