[發明專利]一種加速真空滅弧室散熱的外露屏蔽罩裝置在審
| 申請號: | 201710567712.5 | 申請日: | 2017-07-12 |
| 公開(公告)號: | CN107170634A | 公開(公告)日: | 2017-09-15 |
| 發明(設計)人: | 王清華;周倜 | 申請(專利權)人: | 湖北大禹漢光真空電器有限公司 |
| 主分類號: | H01H33/662 | 分類號: | H01H33/662;H01H33/664 |
| 代理公司: | 上海精晟知識產權代理有限公司31253 | 代理人: | 馮子玲 |
| 地址: | 432000 *** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 加速 真空 滅弧室 散熱 外露 屏蔽 裝置 | ||
1.一種加速真空滅弧室散熱的外露屏蔽罩裝置,包括陶瓷外殼(1)、屏蔽罩(2)、上蓋板(3)和下蓋板(4),所述上蓋板(3)和下蓋板(4)分別設于陶瓷外殼(1)的兩端,且分別固定安裝靜觸頭和動觸頭,所述屏蔽罩(2)設于陶瓷外殼(1)內部,其特征在于,所述陶瓷外殼(1)為中空圓筒狀且沿軸向半徑呈漸變狀,半徑從圓筒的中間向兩端逐漸減小,其中中間部分的圓筒的厚度小于兩端的圓筒的厚度。
2.如權利要求1所述的一種加速真空滅弧室散熱的外露屏蔽罩裝置,其特征在于,所述屏蔽(2)罩的兩端分別延伸至陶瓷外殼(1)端部的上蓋板(3)和下蓋板(4)。
3.如權利要求1所述的一種加速真空滅弧室散熱的外露屏蔽罩裝置,其特征在于,所述屏蔽罩(2)的外表面設有一圈沿圓周方向的凸棱(6),所述陶瓷外殼(1)內壁設有一圈沿圓周方向的凹槽,所述屏蔽罩(2)貼合陶瓷外殼(1)內壁且屏蔽罩(2)通過凸棱(6)配合凹槽嵌設于陶瓷外殼(1)內部。
4.如權利要求1所述的一種加速真空滅弧室散熱的外露屏蔽罩裝置,其特征在于,所述屏蔽罩(2)置于陶瓷外殼(1)內的中間位置。
5.如權利要求1所述的一種加速真空滅弧室散熱的外露屏蔽罩裝置,其特征在于,所述屏蔽罩(2)上設有真空超導散熱管(5)。
6.如權利要求5所述的一種加速真空滅弧室散熱的外露屏蔽罩裝置,其特征在于,所述真空超導散熱管(5)從屏蔽罩(2)的中部延伸至端部。
7.如權利要求1所述的一種加速真空滅弧室散熱的外露屏蔽罩裝置,其特征在于,所述屏蔽罩(2)的內表面設置沿軸向延伸的V形槽(7)。
8.如權利要求1所述的一種加速真空滅弧室散熱的外露屏蔽罩裝置,其特征在于,所述屏蔽罩(2)的內表面涂覆一層防電弧材料層。
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