[發明專利]一種高致密石英坩堝阻擋層制備方法和多晶鑄錠爐在審
| 申請號： | 201710566494.3 | 申請日： | 2017-07-12 |
| 公開（公告）號： | CN107299392A | 公開（公告）日： | 2017-10-27 |
| 發明（設計）人： | 陳偉;肖貴云;姜志興;李林東;李亮;閆燈周;黃晶晶;呂錦滇;金浩 | 申請（專利權）人： | 晶科能源有限公司;浙江晶科能源有限公司 |
| 主分類號： | C30B28/06 | 分類號： | C30B28/06;C30B29/06;C01B33/021 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司11227 | 代理人： | 羅滿 |
| 地址： | 334100 江西*** | 國省代碼： | 江西;36 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 致密 石英 坩堝 阻擋 制備 方法 多晶 鑄錠 | ||
【權利要求書】：
1.一種石英坩堝制備方法，其特征在于，包括：
步驟1，在坩堝主體的內壁噴涂純度大于7N的高純石英砂層；
步驟2，在所述高純石英砂層上設置鈍化層。
2.如權利要求1所述石英坩堝制備方法，其特征在于，在所述步驟2之后，還包括：
步驟3，將所述坩堝主體在1200℃～1500℃下保溫1小時～5小時，使得所述高純石英砂層的高純石英漿形成玻璃態。
3.如權利要求1所述石英坩堝制備方法，其特征在于，所述高純石英砂層的石英顆粒為1μm～10μm。
4.如權利要求1所述石英坩堝制備方法，其特征在于，所述高純石英砂層的厚度為0.3mm～3mm。
5.如權利要求1所述石英坩堝制備方法，其特征在于，所述步驟2，包括：在所述高純石英砂層上噴涂鈍化層。
6.如權利要求5所述石英坩堝制備方法，其特征在于，所述鈍化層為氮化硅鈍化層。
7.如權利要求6所述石英坩堝制備方法，其特征在于，所述氮化硅鈍化層的厚度為1mm～3mm。
8.一種多晶鑄錠爐，其特征在于，包括如權利要求1-7任意一項所述石英坩堝制備方法制成的石英坩堝。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于晶科能源有限公司;浙江晶科能源有限公司，未經晶科能源有限公司;浙江晶科能源有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710566494.3/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
