[發(fā)明專利]硅片對準(zhǔn)標(biāo)記的曝光裝置和曝光方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710561689.9 | 申請日: | 2017-07-11 |
| 公開(公告)號: | CN107145043A | 公開(公告)日: | 2017-09-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黃惠杰;朱箐 | 申請(專利權(quán))人: | 上海鐳慎光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司: | 上海恒慧知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙)31317 | 代理人: | 張寧展 |
| 地址: | 201821 上海市嘉*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 硅片 對準(zhǔn) 標(biāo)記 曝光 裝置 方法 | ||
1.一種硅片對準(zhǔn)標(biāo)記的曝光裝置,其特征在于,包括光源模塊(1)、照明模塊(2)、能量監(jiān)測模塊(3)、成像模塊(4)、安裝主框架(5)、硅片高度傳感器(6)、掩模臺(7)、硅片臺(8)和控制模塊(9),所述的安裝主框架(5)自上而下依次是照明模塊安裝基板(501)、掩模臺(7)、成像模塊安裝基板(502)和硅片臺(8),所述的掩模(701)具有兩個以上對準(zhǔn)標(biāo)記,相應(yīng)的所述的光源模塊(1)、照明模塊(2)、能量監(jiān)測模塊(3)、成像模塊(4)、硅片高度傳感器(6)分別具有相同數(shù)量的曝光光源(1)、照明鏡頭、成像鏡頭、能量監(jiān)測模塊(3)和硅片高度傳感器(6),在所述的照明模塊安裝基板(501)上安裝所述的照明模塊(2)和所述的能量監(jiān)測模塊(3),在所述的所述的成像模塊安裝基板(502)上安裝所述的成像模塊(4)和硅片高度傳感器(6),在所述的掩模臺(7)和硅片臺(8)分別承載掩模(701)和硅片(801),所述的照明鏡頭由聚光鏡組(201)、快門(202)和照明鏡組(203)組成,所述的聚光鏡組(201)的后焦平面和所述的照明鏡組(203)的物面重合,所述的照明鏡組(203)的像面和所述的掩模(701)重合,所述的能量監(jiān)測模塊(3)由分光鏡和光電探測器組成,所述的分光鏡位于聚光鏡組(201)和照明鏡組(203)之間,所述的成像模塊(4)的成像鏡頭的物面和所述的掩模(701)的后表面重合,成像鏡頭的像面和所述的硅片(801)的表面重合;
所述的控制模塊(9)由驅(qū)動單元、控制單元以及多個以上輸入輸出通信接口組成,該控制模塊(9)的輸出端與所述的曝光光源的控制端、照明鏡頭的快門(202)的控制端、硅片臺(8)的控制端相連,控制模塊(9)的輸入端與所述的光電探測器的輸出端、硅片高度傳感器(6)的輸出端相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片對準(zhǔn)標(biāo)記的曝光裝置,其特征在于,所述的曝光光源為光纖耦合LED光源,或是LED和準(zhǔn)直透鏡組合體,或是寬帶光源與濾光片的組合體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片對準(zhǔn)標(biāo)記的曝光裝置,其特征在于,所述的快門(202)為機(jī)械快門、電子快門、光快門或機(jī)械電子混合快門。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片對準(zhǔn)標(biāo)記的曝光裝置,其特征在于,所述的光電探測器為光電二極管、光電三極管、光電倍增管或光電池。
5.利用權(quán)利要求1所述的硅片對準(zhǔn)標(biāo)記的曝光裝置實現(xiàn)硅片對準(zhǔn)標(biāo)記的曝光方法,其特征在于該方法包括以下步驟:
1)曝光預(yù)備:所述的控制模塊(9)打開曝光光源,所述的光電探測器監(jiān)測曝光光強(qiáng)并輸入所述的控制模塊(9);
2)上片:將硅片(801)放置在所述的硅片臺(8)上;
3)所述的控制模塊(9)打開曝光光源,所述的硅片高度傳感器(6)探測硅片(801)的上表面是否和成像鏡頭的的像面重合,如不重合,所述的控制模塊(9)通過硅片臺(8)調(diào)整所述的硅片(801)的高度,使硅片(801)的上表面與成像鏡頭的像面重合;
4)對準(zhǔn)標(biāo)記曝光:控制模塊(9)根據(jù)能量監(jiān)測模塊(3)的光電探測器監(jiān)測當(dāng)前的曝光光強(qiáng)和光刻膠的曝光劑量要求,計算硅片對準(zhǔn)標(biāo)記曝光時間,并設(shè)定曝光時間,打開快門(202)進(jìn)行曝光;
5)達(dá)到曝光時間,控制模塊(9)關(guān)閉快門(202),結(jié)束曝光;
6)換片返回步驟3)實現(xiàn)下一次曝光。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海鐳慎光電科技有限公司,未經(jīng)上海鐳慎光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710561689.9/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
- 對準(zhǔn)標(biāo)記,對準(zhǔn)方法和對準(zhǔn)系統(tǒng)
- 對準(zhǔn)裝置及對準(zhǔn)方法
- 對準(zhǔn)裝置、用于這樣的對準(zhǔn)裝置的對準(zhǔn)元件和對準(zhǔn)方法
- 對準(zhǔn)標(biāo)記及其對準(zhǔn)方法
- 對準(zhǔn)裝置和對準(zhǔn)方法
- 對準(zhǔn)裝置及對準(zhǔn)方法
- 使用物理對準(zhǔn)標(biāo)記和虛擬對準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行對準(zhǔn)
- 使用物理對準(zhǔn)標(biāo)記和虛擬對準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行對準(zhǔn)
- 對準(zhǔn)裝置和對準(zhǔn)方法
- 對準(zhǔn)裝置及對準(zhǔn)方法





