[發明專利]雙層晶體位置查找表的獲取方法有效
| 申請號： | 201710560277.3 | 申請日： | 2017-07-11 |
| 公開（公告）號： | CN107507164B | 公開（公告）日： | 2019-11-05 |
| 發明（設計）人： | 魏清陽;戴甜甜;馬天予;江年銘;劉亞強 | 申請（專利權）人： | 北京永新醫療設備有限公司 |
| 主分類號： | G06T7/00 | 分類號： | G06T7/00;G06T11/00;G06T11/20;G01T1/29 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 張潤 |
| 地址： | 102206 北京市*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 雙層 晶體 位置 查找 獲取 方法 | ||
1.一種雙層晶體位置查找表的獲取方法，其特征在于，包括以下步驟：
以表模式采集镥本底單光子事件，并根據所述镥本底單光子事件生成镥本底單光子事件的泛場圖像I1；
設置符合時間窗，得到镥本底符合事件，并根據所述镥本底符合事件生成镥本底符合事件的泛場圖像I2；
根據镥本底符合事件的泛場圖像I2，獲取探測器環內層晶體響應頂點P1；
在泛場圖像I1中扣除泛場圖像I2以獲取探測器環外層晶體響應的泛場圖像I3，并根據所述探測器環外層晶體響應的泛場圖像I3獲取探測器環外層響應頂點P2；
利用所述探測器環內層晶體響應頂點P1和所述探測器環外層響應頂點P2自動生成晶體位置查找表。
2.根據權利要求1所述的雙層晶體位置查找表的獲取方法，其特征在于，所述根據所述镥本底單光子事件生成泛場圖像I1由所有镥本底單光子事件統計生成泛場圖像I1。
3.根據權利要求1所述的雙層晶體位置查找表的獲取方法，其特征在于，設置符合時間窗是根據探測器環晶體與晶體最大距離，以及探測器固有時間分辨率。
4.根據權利要求1所述的雙層晶體位置查找表的獲取方法，其特征在于，獲取探測器環內層晶體響應頂點P1的方法具體包括：
獲取所述泛場圖像I1在X,Y方向的投影；
根據鄰域極值方法分別獲取投影在X和Y方向上的預設平均峰位；
根據預設平均峰位，生成一個預設頂點陣列；
根據均值平移算法和預設頂點陣列，獲取探測器環內層晶體響應頂點P1。
5.根據權利要求4所述的雙層晶體位置查找表的獲取方法，其特征在于，還包括：根據樣條擬合、或者混合高斯擬合、或者均值平移算法，獲取探測器環內層晶體響應頂點P1。
6.根據權利要求1所述的雙層晶體位置查找表的獲取方法，其特征在于，在泛場圖像I1中扣除泛場圖像I2以獲取探測器環外層晶體響應的泛場圖像I3，公式為：
其中，C1、C2分別為泛場圖像I1和泛場圖像I2總計數，ρ是一個0～1的數。
7.根據權利要求1所述的雙層晶體位置查找表的獲取方法，其特征在于，根據所述探測器環外層晶體響應的泛場圖像I3獲取探測器環外層響應頂點P2具體包括：
獲取所述泛場圖像I2在X,Y方向的投影；
根據鄰域極值方法分別獲取投影在X和Y方向上的預設平均峰位；
根據預設平均峰位，生成一個預設頂點陣列；
根據均值平移算法和預設頂點陣列，獲取探測器環內層晶體響應頂點P2。
8.根據權利要求1所述的雙層晶體位置查找表的獲取方法，其特征在于，利用所述探測器環內層晶體響應頂點P1和所述探測器環外層響應頂點P2生成晶體位置查找表，具體包括：
計算泛場圖像中各像素與帶晶體編號的P1和P2中的每個響應頂點的距離，以具有最小距離的響應頂點所帶的晶體編號作為泛場圖像中的像素的晶體編號。
9.根據權利要求4或7所述的雙層晶體位置查找表的獲取方法，其特征在于，還包括：對錯誤頂點進行修正。
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