[發明專利]帶電粒子束治療裝置

有效

• 申請號: 201710559969.6
• 申請日: 2017-07-11
• 公開（公告）號: CN109224317B
• 公開（公告）日: 2022-02-18
• 發明（設計）人: 上口長昭
• 申請（專利權）人: 住友重機械工業株式會社
• 主分類號: A61N5/10
• 分類號: A61N5/10
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 徐殿軍

一種能夠縮短帶電粒子束治療所需的時間的帶電粒子束治療裝置。照射部(2)具備在照射帶電粒子束(B)的深度方向的規定的層即規定的位置掃描帶電粒子束(B)的掃描電磁鐵(6)。并且，控制部(7)如下控制照射部(2)：以第1電流值照射帶電粒子束(B)而進行掃描之后，并以不同于第1電流值的第2電流值照射帶電粒子束(B)而進行掃描。通過這種結構，照射部(2)對于劑量較低的區域能夠設定第1電流值及第2電流值中較低的電流值來照射帶電粒子束(B)。另一方面，照射部(2)對于劑量較高的區域能夠設定第1電流值及第2電流值中較高的電流值來照射帶電粒子束(B)。如此，對于各區域能夠以與劑量相符的電流值照射帶電粒子束。

技術領域

本發明涉及一種帶電粒子束治療裝置。

背景技術

一直以來，作為通過對患者的患處照射帶電粒子束來進行治療的帶電粒子束治療裝置，例如已知有專利文獻1中記載的裝置。專利文獻1中記載的帶電粒子束治療裝置中，將被加速器加速的帶電粒子束利用掃描用電磁鐵掃描之后，照射到患者的患處。該帶電粒子束治療裝置通過調整帶電粒子束的掃描速度來調整對患處照射的帶電粒子束的劑量。

專利文獻1：日本特開2009-243891公報

在此，如上所述的帶電粒子束治療裝置在帶電粒子束的照射過程中不改變該帶電粒子束的電流值而使其保持恒定。因此，為了避免對需要減少劑量的區域照射過多劑量的帶電粒子束，配合最應將劑量調小的區域來設定帶電粒子束的電流值。而且，對于其他區域，則通過延長照射帶電粒子束的時間(例如，以光柵掃描方式調慢掃描速度，點掃描方式中延長點上的停留時間)來獲得所需的劑量。

然而，存在如下問題：進行如上治療的情況下，由于在劑量較高的區域需要長時間照射低電流(低劑量率)的帶電粒子束而導致大幅延長照射時間，并導致延長治療所需的時間。

發明內容

因此，本發明的目的在于提供一種能夠縮短帶電粒子束治療所需的時間的帶電粒子束治療裝置。

為了解決上述課題，本發明所涉及的帶電粒子束治療裝置具備：加速器，將帶電粒子加速并射出帶電粒子束；照射部，向被照射體照射帶電粒子束；射束傳輸線路，連接加速器與照射部，并將從加速器射出的帶電粒子束傳輸至照射部；及控制部，控制照射部所進行的帶電粒子束的照射，將被照射體在帶電粒子束的照射深度方向上虛擬分割成多個層的情況下，照射部具備在各個層掃描帶電粒子束的掃描部，控制部以在一個層以第1電流值照射帶電粒子束而進行掃描之后，在該一個層以不同于第1電流值的第2電流值照射帶電粒子束而進行掃描的方式控制照射部。

本發明所涉及的帶電粒子束治療裝置中，照射部具備在一個層掃描帶電粒子束的掃描部。并且，控制部如下控制照射部：在以第1電流值照射帶電粒子束而進行掃描之后，以不同于第1電流值的第2電流值照射帶電粒子束而進行掃描。通過這種結構，對于劑量較低的區域，照射部能夠設定第1電流值及第2電流值中較低的電流值來照射帶電粒子束。另一方面，照射部對于劑量較高的區域能夠設定第1電流值及第2電流值中較高的電流值來照射帶電粒子束。如此，對于各區域能夠以與劑量相符的電流值照射帶電粒子束。由此，能夠避免照射部將與劑量較低的區域相符的電流值的帶電粒子束長時間照射到劑量較高的區域。通過以上結構，能夠縮短帶電粒子束治療所需的時間。

并且，本發明所涉及的帶電粒子束治療裝置中，控制部可以如下控制照射部：使以第2電流值掃描帶電粒子束的第2區域包含與以第1電流值掃描帶電粒子束的第1區域不同的區域。該情況下，第1區域與第2區域成為全部或局部不同的區域。因此，照射部能夠將不同電流值的帶電粒子束照射到不同的區域，因此與對同一部位照射不同電流值的帶電粒子束的情況相比，照射時間的運算等變得容易。

并且，控制部可以對規定的位置根據至少設定有第1區域和第2區域的治療計劃圖控制照射部，治療計劃圖中，根據對規定的位置計劃的帶電粒子束的劑量分布設定有第1區域及第2區域。該情況下，根據治療計劃圖的劑量分布設定第1區域及第2區域，從而能夠容易設定各區域。