[發(fā)明專利]電磁信號(hào)聚焦結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710558574.4 | 申請(qǐng)日: | 2017-07-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107611620B | 公開(公告)日: | 2021-06-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | D·F·羅斯勞爾;G·曼特拉瓦迪 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 凱薩系統(tǒng)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01Q15/14 | 分類號(hào): | H01Q15/14;H01Q15/16;H01Q19/10;H01Q19/13 |
| 代理公司: | 中國貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人: | 邊海梅 |
| 地址: | 美國加*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電磁 信號(hào) 聚焦 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種用于聚焦電磁信號(hào)的系統(tǒng),包括:
多層基板,所述多層基板包括:
接地層;以及
多個(gè)EHF聚焦層,所述EHF聚焦層中的每個(gè)EHF聚焦層包括:
形成能透射電磁EM信號(hào)的EHF聚焦窗口的一部分的電介質(zhì)部分;以及
圍繞所述電介質(zhì)部分的多個(gè)導(dǎo)電通孔,所述多個(gè)導(dǎo)電通孔限定所述EHF聚焦窗口的外周,其中所述多個(gè)導(dǎo)電通孔在每個(gè)EHF聚焦層中彼此間隔開,使得所述多個(gè)導(dǎo)電通孔形成阻止所述EM信號(hào)穿過所述EHF聚焦窗口的所述外周的EM柵欄,
其中,每個(gè)EHF聚焦層的EHF聚焦窗口的特征在于不同的截面面積;以及
非接觸通信單元CCU,包括控制電路系統(tǒng)和天線,其中所述天線定位在所述EHF聚焦層之一內(nèi)并且在所述接地層上方,使得所述天線與所述接地層之間的距離小于所述EM信號(hào)的波長的四分之一,并且其中在所述CCU的操作期間,所述天線電耦合到所述EM信號(hào),并且其中所述EHF聚焦窗口共同地接收所述EM信號(hào)并且增強(qiáng)所述EM信號(hào)的相長EM干涉。
2.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述EHF聚焦層中的頂EHF聚焦層中的EHF聚焦窗口的截面面積大于位于所述頂EHF聚焦層之下的EHF聚焦層中的EHF聚焦窗口,并且其中EHF聚焦窗口的截面面積的大小被確定成使得EHF聚焦窗口的形狀為拋物面。
3.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述多層基板的厚度為1毫米或更少。
4.一種用于控制與對(duì)等方通信單元的非接觸通信的模塊,所述模塊包括:
非接觸通信電路系統(tǒng),包括硅管芯,所述硅管芯具有第一表面;
天線,電耦合到所述非接觸通信電路系統(tǒng),并且電耦合到電磁EM信號(hào);以及
EM聚焦結(jié)構(gòu),被固定到所述第一表面,所述EM聚焦結(jié)構(gòu)包括多個(gè)EHF聚焦層,所述EHF聚焦層中的每個(gè)EHF聚焦層包括能透射所述電磁EM信號(hào)的EHF聚焦窗口,
其中,每個(gè)EHF聚焦窗口是通過多個(gè)導(dǎo)電通孔限定的,其中所述多個(gè)導(dǎo)電通孔在每個(gè)EHF聚焦層中彼此間隔開,使得所述多個(gè)導(dǎo)電通孔形成阻止所述EM信號(hào)穿過所述EHF聚焦窗口的外周的EM柵欄;
其中,所述硅管芯用作反射所述EM信號(hào)的接地平面,其中所述天線被定位在所述EM聚焦結(jié)構(gòu)的頂表面與所述硅管芯之間,并且其中所述EHF聚焦窗口具有不同的截面面積,并且其中所述EHF聚焦窗口共同地接收所述EM信號(hào)并且增強(qiáng)所述EM信號(hào)的相長EM干涉。
5.如權(quán)利要求4所述的模塊,還包括部署在所述硅管芯的頂上的反射材料,其中所述反射材料和所述硅管芯的組合用作所述EM聚焦結(jié)構(gòu)的所述接地平面。
6.如權(quán)利要求4所述的模塊,其中所述多個(gè)EHF聚焦層包括第一EHF聚焦層、第二EHF聚焦層和第三EHF聚焦層,并且其中所述第一EHF聚焦層直接定位到所述硅管芯,所述第二EHF聚焦層定位在所述第一EHF聚焦層的頂上,并且所述第三EHF聚焦層定位在所述第二EHF聚焦層的頂上。
7.如權(quán)利要求6所述的模塊,其中與所述第一EHF聚焦層相關(guān)聯(lián)的EHF聚焦窗口具有比與所述第二EHF聚焦層相關(guān)聯(lián)的EHF聚焦窗口更小的截面,并且其中與所述第二EHF聚焦層相關(guān)聯(lián)的EHF聚焦窗口具有比與所述第三EHF聚焦層相關(guān)聯(lián)的EHF聚焦窗口更小的截面。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于凱薩系統(tǒng)股份有限公司,未經(jīng)凱薩系統(tǒng)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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