[發(fā)明專利]掩模、測(cè)量方法、曝光方法以及物品制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710558573.X
• 申請(qǐng)日: 2017-07-11
• 公開（公告）號(hào): CN107621749B
• 公開（公告）日: 2021-04-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 安藤美和子;河野道生;岡雅之
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佳能株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F1/38
• 分類號(hào): G03F1/38;G03F9/00
• 代理公司: 中國(guó)貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 孫蕾

1.一種掩模，具有第1標(biāo)記以及第2標(biāo)記，所述第1標(biāo)記以及所述第2標(biāo)記用于對(duì)曝光在基板上的第1拍攝區(qū)域的位置、與以對(duì)所述第1拍攝區(qū)域的一部分設(shè)置接合區(qū)域的方式曝光的第2拍攝區(qū)域的位置之間的偏離進(jìn)行測(cè)量，所述掩模的特征在于，

所述第1標(biāo)記是曝光在所述第1拍攝區(qū)域內(nèi)的所述接合區(qū)域的標(biāo)記，具有第1減光區(qū)域、光透射率比所述第1減光區(qū)域的光透射率高的第1區(qū)域和光透射率比所述第1減光區(qū)域的光透射率低的第11區(qū)域，

所述第2標(biāo)記是與所述第1標(biāo)記不同的、與所述第1標(biāo)記疊合地曝光在所述第2拍攝區(qū)域內(nèi)的所述接合區(qū)域的標(biāo)記，具有第2減光區(qū)域、光透射率比所述第2減光區(qū)域的光透射率高的第2區(qū)域和光透射率比所述第2減光區(qū)域的光透射率低的第22區(qū)域，

在將所述第1標(biāo)記以及第2標(biāo)記重疊的情況下，所述第1標(biāo)記的第1區(qū)域和所述第11區(qū)域的邊界處于所述第2標(biāo)記的第2減光區(qū)域，所述第2標(biāo)記的第2區(qū)域和所述第22區(qū)域的邊界處于所述第1標(biāo)記的第1減光區(qū)域。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模，其特征在于，

所述第1減光區(qū)域或者所述第2減光區(qū)域具有減低入射光的光量并射出的膜。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模，其特征在于，

所述第1減光區(qū)域或者所述第2減光區(qū)域具有當(dāng)曝光在基板時(shí)不進(jìn)行析像的圖案。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩模，其特征在于，

所述圖案包括線與間隙圖案或者點(diǎn)圖案。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模，其特征在于，

所述標(biāo)記是框形狀，該框形狀具有沿著相互垂直的兩個(gè)方向的外形。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩模，其特征在于，

所述標(biāo)記是框形狀，該框形狀具有沿著相互垂直的兩個(gè)方向的外形，

所述圖案包括線與間隙圖案，該線與間隙圖案具有在相對(duì)于所述兩個(gè)方向傾斜的方向上延伸的線。

7.一種測(cè)量方法，對(duì)曝光在基板上的第1拍攝區(qū)域的位置、與以對(duì)所述第1拍攝區(qū)域的一部分設(shè)置接合區(qū)域的方式曝光的第2拍攝區(qū)域的位置之間的偏離進(jìn)行測(cè)量，所述測(cè)量方法的特征在于，具有：

使用具有第1標(biāo)記的掩模將所述第1標(biāo)記的像曝光在所述第1拍攝區(qū)域內(nèi)的所述接合區(qū)域的工序，所述第1標(biāo)記用于對(duì)所述第1拍攝區(qū)域的位置與所述第2拍攝區(qū)域的位置之間的偏離進(jìn)行測(cè)量并包括第1減光區(qū)域、光透射率比所述第1減光區(qū)域的光透射率高的第1區(qū)域和光透射率比所述第1減光區(qū)域的光透射率低的第11區(qū)；

使用具有第2標(biāo)記的掩模將所述第2標(biāo)記的像與所述第1標(biāo)記疊合地曝光在所述第2拍攝區(qū)域內(nèi)的所述接合區(qū)域的工序，所述第2標(biāo)記與所述第1標(biāo)記不同，用于對(duì)所述第1拍攝區(qū)域的位置與所述第2拍攝區(qū)域的位置之間的偏離進(jìn)行測(cè)量并包括第2減光區(qū)域、光透射率比所述第2減光區(qū)域的光透射率高的第2區(qū)域和光透射率比所述第2減光區(qū)域的光透射率低的第22區(qū)域；

在所述第1標(biāo)記的像與所述第2標(biāo)記的像重疊地形成的像中，測(cè)量與所述第1標(biāo)記和所述第11區(qū)域的邊界對(duì)應(yīng)的第1邊緣的位置、和與所述第2標(biāo)記和所述第22區(qū)域的邊界對(duì)應(yīng)的第2邊緣的位置的工序；以及

根據(jù)測(cè)量出的所述第1邊緣以及所述第2邊緣的位置計(jì)算所述接合區(qū)域中的所述第1拍攝區(qū)域的位置與所述第2拍攝區(qū)域的位置之間的偏離的工序，

在將所述第1標(biāo)記以及第2標(biāo)記重疊的情況下，所述第1標(biāo)記的第1區(qū)域和所述第11區(qū)域的邊界處于所述第2標(biāo)記的第2減光區(qū)域，所述第2標(biāo)記的第2區(qū)域和所述第22區(qū)域的邊界處于所述第1標(biāo)記的第1減光區(qū)域。

8.一種曝光方法，對(duì)基板進(jìn)行曝光，所述曝光方法的特征在于，具有：

使用權(quán)利要求7所述的測(cè)量方法計(jì)算設(shè)置接合區(qū)域并曝光的兩個(gè)拍攝區(qū)域的位置的偏離的工序；以及

當(dāng)將第1拍攝區(qū)域曝光在基板上后，以對(duì)所述第1拍攝區(qū)域的一部分設(shè)置接合區(qū)域的方式曝光第2拍攝區(qū)域的曝光工序，

在所述曝光工序中，根據(jù)計(jì)算出的偏離，對(duì)所述第1拍攝區(qū)域或者所述第2拍攝區(qū)域的形狀進(jìn)行校正，對(duì)所述第1拍攝區(qū)域以及所述第2拍攝區(qū)域進(jìn)行曝光。

9.一種制造物品的制造方法，其特征在于，具有：

使用權(quán)利要求8所述的曝光方法對(duì)基板進(jìn)行曝光的工序；

對(duì)曝光后的基板進(jìn)行顯影的工序；以及

對(duì)顯影后的基板進(jìn)行處理來制造物品的工序。