[發(fā)明專利]金屬片表面低溫打磨除銹及拋光處理裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710558387.6 | 申請日: | 2017-07-10 |
| 公開(公告)號: | CN107186562A | 公開(公告)日: | 2017-09-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 饒剛;謝威;余震;陸長勝;陳鋒;豐帆;趙昊坤;姜燕;孟慶華 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢科技大學(xué) |
| 主分類號: | B24B7/10 | 分類號: | B24B7/10;B24B27/033;B24B55/02;B24B51/00;B24B41/02 |
| 代理公司: | 武漢開元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司42104 | 代理人: | 王和平 |
| 地址: | 430081 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 金屬片 表面 低溫 打磨 除銹 拋光 處理 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于機(jī)械設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體地涉及一種金屬片表面低溫打磨除銹及拋光處理裝置。
背景技術(shù)
金屬材料的加工過程包括對該金屬材料表面進(jìn)行打磨,目前做化學(xué)實(shí)驗(yàn)用的大多數(shù)金屬片在實(shí)驗(yàn)前常用砂紙進(jìn)行人工打磨,但人工打磨的金屬片表面不夠光滑均勻且不能保證表面的氧化膜等銹層全部被除盡,由此會(huì)影響實(shí)驗(yàn)的準(zhǔn)確性;常用的干磨機(jī)雖然能保證打磨的均勻性,但是干磨機(jī)產(chǎn)熱會(huì)導(dǎo)致待打磨的金屬晶格形狀改變,從而對實(shí)驗(yàn)結(jié)果產(chǎn)生影響,因此,需要一款不僅能打磨均勻,且不會(huì)影響待打磨金屬晶格形狀發(fā)生改變的打磨處理裝置。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明的目的在于提供了一種金屬片表面低溫打磨除銹及拋光處理裝置,該處理裝置根據(jù)所選金屬片長寬調(diào)節(jié)直線機(jī)構(gòu)底板側(cè)面的行程接近開關(guān)從而控制第一直線機(jī)構(gòu)及第二直線機(jī)構(gòu)的移動(dòng)平臺的行程,根據(jù)金屬片厚度調(diào)節(jié)升降機(jī)構(gòu),直線機(jī)構(gòu)往復(fù)運(yùn)動(dòng)的同時(shí)打磨輪進(jìn)行打磨,保證了金屬片打磨的均勻性;同時(shí)該處理裝置增加了冷卻液循環(huán)系統(tǒng),用于冷卻金屬表面,減少了待打磨金屬發(fā)熱引起的金屬晶格發(fā)生改變的問題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明公開了一種金屬片表面低溫打磨除銹及拋光處理裝置,該處理裝置包括第一直線機(jī)構(gòu)、第二直線機(jī)構(gòu)、冷卻液循環(huán)系統(tǒng)、打磨機(jī)構(gòu)、升降機(jī)構(gòu)、控制柜和機(jī)架,所述機(jī)架上安裝有控制柜、升降機(jī)構(gòu)、冷卻液循環(huán)系統(tǒng)和第一直線機(jī)構(gòu),所述第一直線機(jī)構(gòu)的第一移動(dòng)平臺的上端面固定連接第二直線機(jī)構(gòu)的第二底板,所述第二底板的上端面設(shè)有第二移動(dòng)平臺,所述第二移動(dòng)平臺的上端面安裝有打磨機(jī)構(gòu)的打磨柜,所述打磨機(jī)構(gòu)的打磨臺電機(jī)固定在升降機(jī)構(gòu)的升降臺上;
所述冷卻液循環(huán)系統(tǒng)包括水箱,所述水箱通過進(jìn)水管向打磨機(jī)構(gòu)的打磨柜進(jìn)水,所述打磨柜內(nèi)部設(shè)置的排水管與沉淀箱相連,所述沉淀箱通過連接管與水箱保持內(nèi)部相通。
進(jìn)一步地,所述第一直線機(jī)構(gòu)包括安裝在機(jī)架上的第一底板,所述第一底板的上端面固定有第一固定板和第二固定板,所述第一固定板和第二固定板通過第一底板上端面設(shè)置的第一滾珠絲桿和第一直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌保持相連,所述第一直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌和第一滾珠絲桿均貫穿設(shè)置在第一固定板和第二固定板之間的第一移動(dòng)平臺。
再進(jìn)一步地,所述第一底板的同一側(cè)面方向上設(shè)有行程接近開關(guān)一和行程接近開關(guān)二,所述行程接近開關(guān)一與接近開關(guān)支架一的一端固連,所述接近開關(guān)支架一的另一端通過T型螺母與第一底板滑動(dòng)連接,所述行程接近開關(guān)二與接近開關(guān)支架二的一端固連,所述接近開關(guān)支架二的另一端也通過T型螺母與第一底板滑動(dòng)連接。
更進(jìn)一步地,所述第二直線機(jī)構(gòu)包括安裝在第一移動(dòng)平臺上端面的第二底板,所述第二底板的上端面固定有第三固定板和第四固定板,所述第三固定板和第四固定板通過第二底板上端面設(shè)置的第二滾珠絲桿和第二直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌保持相連,所述第二直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌和第二滾珠絲桿均貫穿設(shè)置在第三固定板和第四固定板之間的第二移動(dòng)平臺。
更進(jìn)一步地,所述第二底板的同一側(cè)面方向上設(shè)有行程接近開關(guān)三和行程接近開關(guān)四,所述行程接近開關(guān)三與接近開關(guān)支架三的一端固連,所述接近開關(guān)支架三的另一端通過T型螺母與第二底板滑動(dòng)連接,所述行程接近開關(guān)四與接近開關(guān)支架四的一端固連,所述接近開關(guān)支架四的另一端也通過T型螺母與第二底板滑動(dòng)連接。
更進(jìn)一步地,所述第一直線機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌和第二直線導(dǎo)軌在空間上相互垂直,所述第一滾珠絲桿和第二滾珠絲桿在空間上相互垂直。
更進(jìn)一步地,所述打磨柜為由第一側(cè)面、第二側(cè)面、第三側(cè)面、第四側(cè)面及底面圍合形成的上端開口的方體,在方體內(nèi)部設(shè)有與第一側(cè)面相貼合的透明罩,在透明罩的凹槽內(nèi)設(shè)置有擋水塊,所述擋水塊沿橫向滑軌作往復(fù)運(yùn)動(dòng),所述橫向滑軌的兩端分別固定在兩根縱向?qū)к壣习惭b的縱向滑塊上,所述兩根縱向?qū)к壨ㄟ^縱向?qū)к壷巫謩e固定在第二側(cè)面和第四側(cè)面上。
更進(jìn)一步地,所述打磨柜的底面上方設(shè)有永磁打磨臺,所述永磁打磨臺上方設(shè)有打磨輪,所述打磨輪連接打磨桿的一端,所述打磨桿的另一端依次貫穿擋水塊、透明罩,與打磨臺電機(jī)相連。
更進(jìn)一步地,所述升降機(jī)構(gòu)包括固定在機(jī)架上的固定架,所述固定架上方設(shè)有升降臺托板,所述升降臺托板固定連接升降臺底座,所述升降臺底座分別與兩根第一升降桿和兩根第二升降桿連接,所述兩根第一升降桿和兩根第二升降桿固定支撐升降臺。
更進(jìn)一步地,所述第一升降桿的一端與升降臺底座鉸接,第一升降桿的另一端與升降臺第二滑塊鉸接,第二升降桿的一端與升降臺底座鉸接,第二升降桿的另一端與升降臺第一滑塊鉸接,第一升降桿和第二升降桿鉸接。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于武漢科技大學(xué),未經(jīng)武漢科技大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710558387.6/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:超分辨率重建方法、裝置及電子設(shè)備
- 下一篇:一種圖像處理裝置及方法





