[發明專利]可在常壓和低壓間轉換的噴涂設備

在審

• 申請號: 201710558257.2
• 申請日: 2017-07-10
• 公開（公告）號: CN107299331A
• 公開（公告）日: 2017-10-27
• 發明（設計）人: 黃勇彪;呂喜鵬;林文寶;劉海燕;李寶英
• 申請（專利權）人: 深圳市眾誠達應用材料科技有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/35;C23C4/131;C23C4/134;C23C24/04
• 代理公司: 深圳市瑞方達知識產權事務所(普通合伙)44314
• 代理人: 林儉良

技術領域

本發明涉及噴涂設備領域，尤其是涉及一種可在常壓和低壓間轉換的噴涂設備。

背景技術

噴涂磁控濺射靶材應用于觸摸屏、建筑玻璃、汽車玻璃、太陽能光伏、裝飾五金等產業，市場容量巨大。但國內噴涂磁控濺射靶材市場中，高端產品幾乎被德國、美國、比利時等發達國家壟斷。由于技術封閉和起步較晚，國內廠家一般均采用噴槍直接噴涂材料成型：一方面由于是在敞開的大氣環境下高溫噴涂材料成型，成型的金屬或合金靶材材料中氧氮含量必然大幅增加，導致所成型的靶材材料在磁控濺射時的成膜性和導電性不佳而無法使用；另一方面，氧化物陶瓷靶材材料在常壓條件下通過高溫熱噴涂后通常會失氧，失氧的氧化物涂層因具有導電性而能夠滿足直流磁控濺射的需要，不導電的靶材材料在直流磁控濺射過程中根本無法起弧，導致濺射過程無法進行；再一方面：如果分開單獨購置專用設備，對企業來說，占地和資金就都要至少多出一倍。這就需要一種多功能裝置設備：使噴涂過程既能在常壓環境下噴涂氧化物類磁控濺射靶材材料、又能方便快速地形成低壓環境，噴涂金屬及其合金等要求低氧氮含量的磁控濺射靶材。但目前國內外市場上還沒有這樣的裝置設備。

發明內容

本發明要解決的技術問題在于，針對現有技術中的上述缺陷，提供一種可在常壓和低壓間轉換的噴涂設備。

本發明解決其技術問題所采用的技術方案是：構造一種可在常壓和低壓間轉換的噴涂設備，包括：

噴涂室，包括底座以及可分離地罩在底座上的密封罩，底座與密封罩之間形成密封，以密封整個噴涂室；

工作臺，設在噴涂室中，其上設有可安裝待噴涂件的安裝機構；

噴槍，設在工作臺上，以向安裝在安裝機構上的待噴涂件進行噴涂；

抽真空機構，與噴涂室內部連通；

抽風排塵機構，與噴涂室內部連通。

優選地，噴槍可滑動或轉動地設在工作臺上。

優選地，噴槍可沿第一方向和第二方向滑動地設在工作臺上，第一方式和第二方向不平行，噴涂設備還包括帶動噴槍移動的驅動機構。

優選地，噴槍為電弧噴槍、冷氣動力噴槍或等離子噴槍。

優選地，安裝機構包括可夾持待噴涂件的夾具，以實現待噴涂件的安裝。

優選地，密封罩在上方罩住工作臺，罩子的開口形狀與工作臺的外形對應。

優選地，該噴涂設備包括可與密封罩連接的吊裝機構，以通過吊裝機構打開或蓋上密封罩。

優選地，抽真空機構和/或抽風排塵機構從工作臺底部向噴涂室連通。

優選地，抽真空機構以及抽風排塵機構與噴涂室之間連通管道上設有管道切換機構，管道切換機構包括閥門，以通過閥門打開或關閉抽真空機構以及抽風排塵機構與噴涂室之間的連接。

優選地，該噴涂設備還包括基座，噴涂室、工作臺、噴槍、抽真空機構和抽風排塵機構設在基座上。

實施本發明的技術方案，至少具有以下的有益效果：本發明的噴涂設備用于噴涂濺射靶材或其它高端產品，通過更換不同噴槍和啟閉密封罩方便地實現常壓電弧噴涂、低壓電弧噴涂、常壓等離子噴涂、低壓等離子噴涂、常壓冷氣動力噴涂、低壓冷氣動力噴涂等噴涂工藝，極大地方便企業選用各種工藝噴涂金屬、陶瓷、合金等多種濺射靶材材料，為企業節約了投資。

附圖說明

下面將結合附圖及實施例對本發明作進一步說明，附圖中：

圖1是本發明一優選實施例中的噴涂設備的立體圖(密封罩處于密封狀態)。

圖2是圖1中的噴涂設備的另一立體圖(密封罩處于打開狀態)。

圖3是圖2中A部位的局部放大圖。

圖4是圖1中的噴涂設備的另一立體圖(密封罩處于打開并放置在一旁的狀態)。

圖5是圖1中的噴涂設備的另一立體圖(密封罩處于密封狀態)

圖6是圖1中的噴涂設備的另一立體圖(密封罩處于打開狀態)。

圖7是圖1中的噴涂設備的另一立體圖(密封罩處于打開并放置在一旁的狀態)。

其中，1.噴涂室，11.底座，12.密封罩，12a.觀察窗，2.工作臺，21.夾具，3.噴槍，4.抽真空機構，5.抽風排塵機構，6.管道切換機構，61.連通管道，7.吊裝機構，8.基座，9.待噴涂件。

具體實施方式