[發明專利]薄膜組件用粘著劑、薄膜組件和選擇薄膜組件用粘著劑的方法有效
| 申請號: | 201710555994.7 | 申請日: | 2017-07-10 |
| 公開(公告)號: | CN107608175B | 公開(公告)日: | 2023-04-07 |
| 發明(設計)人: | 簗瀨優;堀越淳 | 申請(專利權)人: | 信越化學工業株式會社 |
| 主分類號: | G03F1/62 | 分類號: | G03F1/62;G03F1/64 |
| 代理公司: | 北京市隆安律師事務所 11323 | 代理人: | 權鮮枝 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 薄膜 組件 粘著 選擇 方法 | ||
1.一種薄膜組件,其包括:
薄膜組件框架;
設置在所述薄膜組件框架的上端面上方的薄膜組件膜;
粘附到所述薄膜組件框架的下端面的粘著劑,以及
可脫模地設置到所述粘著劑的下端面用于保護所述粘著劑直至所述粘著劑與光掩模直接接觸的脫模層,其中所述粘著劑的剝離強度為1.20N/cm2以上,剝離強度與拉伸強度之比為是由組合物固化的粘著劑,該組合物包含:
丙烯酸烷基酯或甲基丙烯酸烷基酯共聚物,其包含丙烯酸烷基酯或甲基丙烯酸烷基酯單體單元和與異氰酸酯基具有反應性的單體單元,以及
固化劑,其為異氰酸酯化合物。
2.根據權利要求1所述的薄膜組件,其中所述粘著劑具有660%以下的行程,其中所述行程是在測量所述拉伸強度中斷裂時的伸長率。
3.根據權利要求1或2所述的薄膜組件,其中所述丙烯酸烷基酯或甲基丙烯酸烷基酯共聚物包含90-99重量%的所述丙烯酸烷基酯或甲基丙烯酸烷基酯單體單元和1-10重量%的所述與異氰酸酯基具有反應性的單體單元,
其中所述組合物基本上不含表面改性劑。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





