[發明專利]一種石墨舟自動裝卸片設備有效
| 申請號: | 201710555647.4 | 申請日: | 2017-07-10 |
| 公開(公告)號: | CN107365980B | 公開(公告)日: | 2019-01-11 |
| 發明(設計)人: | 王俊朝;李軍陽;李學文;劉兵吉 | 申請(專利權)人: | 深圳豐盛裝備股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/513 | 分類號: | C23C16/513;C23C16/458 |
| 代理公司: | 深圳市深科信知識產權代理事務所(普通合伙) 44422 | 代理人: | 彭光榮 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區高*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 硅片 上下料機構 石墨舟 裝卸 自動裝卸 料盒傳送裝置 電池片生產 自動化設備 自動化生產 太陽能電池 插片裝置 硅片傳送 硅片鍍膜 勞動成本 生產損耗 升降裝置 中轉盒 料盒 廠商 | ||
1.一種石墨舟自動裝卸片設備,其特征在于:包括硅片上下料機構和硅片裝卸片機構,所述硅片上下料機構位于硅片裝卸片機構的一側;
所述硅片上下料機構包括料盒傳送裝置、料盒升降裝置以及硅片傳送裝置,所述的料盒傳送裝置包括上料盒傳送線和下料盒傳送線,所述上料盒傳送線位于下料盒傳送線上方,所述上料盒傳送線用于將裝有未鍍膜硅片的硅片承載盒傳送至料盒升降裝置上,所述下料盒傳送線用于接收料盒升降裝置傳送的硅片承載盒;所述料盒升降裝置位于上料盒傳送線和下料盒傳送線的后方,料盒升降裝置用于帶動硅片承載盒上下運動;所述硅片傳送裝置位于料盒升降裝置后方,硅片傳送裝置用于在料盒升降裝置和硅片裝卸片機構之間實現硅片的傳送;
所述硅片裝卸片機構包括中轉盒裝置、XY平臺裝置、插片裝置以及石墨舟,所述中轉盒裝置位于硅片傳送裝置后方,中轉盒裝置用于放置待傳送的硅片;所述XY平臺裝置位于所述石墨舟上方,所述的插片裝置設置在XY平臺裝置上,該插片裝置通過XY平臺裝置的帶動而運動,插片裝置用于將中轉盒裝置中的硅片取出并放入石墨舟內,以及將石墨舟內的硅片取出并放入中轉盒裝置中;
所述的中轉盒裝置包括中轉架以及驅動中轉架上下運動的中轉架驅動裝置;所述的中轉架包括第二橫板、第三豎向板以及第四豎向板,第三豎向板和第四豎向板固定在第二橫板上,且第三豎向板和第四豎向板相對的側面上設置有多個凸塊,第三豎向板上相鄰凸塊的間隙和第四豎向板上相鄰凸塊的間隙用于插入硅片。
2.根據權利要求1所述的一種石墨舟自動裝卸片設備,其特征在于:所述的上料盒傳送線和下料盒傳送線均包括傳送架、第一電機以及第一傳送皮帶;
所述第一傳送皮帶轉動安裝在傳送架上,所述第一電機固定在傳送架的側邊上,第一電機用于帶動第一傳送皮帶轉動,所述第一傳送皮帶上用于放置硅片承載盒。
3.根據權利要求1所述的一種石墨舟自動裝卸片設備,其特征在于:所述的硅片上下料機構還包括硅片緩存裝置,該硅片緩存裝置設置在料盒升降裝置后方,硅片緩存裝置用于暫存硅片傳送裝置傳送的硅片。
4.根據權利要求3所述的一種石墨舟自動裝卸片設備,其特征在于:所述的硅片緩存裝置包括緩存盒、第一固定座、伸縮桿以及驅動裝置;
所述伸縮桿穿過于第一固定座,所述緩存盒固定在所述伸縮桿的頂端上,所述驅動裝置用于驅動伸縮桿帶動緩存盒往復運動;
所述的緩存盒包括第一橫板、第一豎向板以及第二豎向板,所述伸縮桿的頂端固定在第一橫板上;所述第一豎向板和第二豎向板的一端均垂直固定在第一橫板上,且第一豎向板和第二豎向板相對的側面上均設置有多個隔板,第一豎向板上相鄰隔板的間隙與第二豎向板上相鄰隔板的間隙之間用于插入硅片。
5.根據權利要求4所述的一種石墨舟自動裝卸片設備,其特征在于:所述的驅動裝置包括伺服電機、絲桿、絲桿螺母、第二固定座、導向桿以及導套;
所述絲桿的底端連接在伺服電機的輸出軸上,絲桿的頂端轉動安裝在所述第一固定座上;所述的絲桿螺母設置于絲桿上,且該絲桿螺母固定在所述的第二固定座上,所述伺服電機用于驅動第二固定座往復運動;所述伸縮桿的底端固定在第二固定座上;
所述導向桿的頂端固定在所述的第一固定座上,導向桿的底端固定在所述的伺服電機上;所述的導向桿穿過于導套,且所述導套固定在第二固定座上。
6.根據權利要求1所述的一種石墨舟自動裝卸片設備,其特征在于:所述硅片傳送裝置包括驅動電機和驅動皮帶,所述驅動電機帶動驅動皮帶轉動,所述驅動皮帶用于放置硅片。
7.根據權利要求1所述的一種石墨舟自動裝卸片設備,其特征在于:所述的中轉架驅動裝置包括第四電機、第一滑軌、第一螺桿以及第一滑塊;
所述第一螺桿的一端與第四電機的輸出軸連接,所述第一滑塊設置在第一螺桿上,并通過第四電機的帶動在第一滑軌上滑動,所述的中轉架固定在所述的第一滑塊上。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





