[發明專利]阻止氧阻聚方法和裝置及在曝光機或打印機中的應用

在審

• 申請號: 201710551906.6
• 申請日: 2017-07-07
• 公開（公告）號: CN107145042A
• 公開（公告）日: 2017-09-08
• 發明（設計）人: 卜江;楊遇春
• 申請（專利權）人: 深圳市容大感光科技股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;B41J11/00
• 代理公司: 重慶弘旭專利代理有限責任公司50209
• 代理人: 周韶紅

1.一種阻止氧阻聚的方法，其特征在于所述方法為：

在打印期間或曝光期間，應用不含氧化性氣體的流動氣體持續與被打印或曝光的基材表面接觸，排除基材表面的氧氣成分，其中流動氣體與基材表面接觸的氣體束的橫截面為圓形，圓形的直徑為5-1000mm，或流動氣體與基材表面接觸的氣體束的橫截面為方形，方形的寬度為5-30mm，方形的長度為20-2000mm，流動氣體與基材表面接觸的瞬間氣體流速為1-20m³/秒。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于所述方形的長度為20-1000mm。

3.一種阻止氧阻聚裝置，所述裝置包括噴氣頭和與噴氣頭連接的氣體輸送管，其特征在于所述氣體為保護氣體，即氣體中不含有氧化性的氣體成分，所述噴氣頭內部具有噴氣孔，噴氣頭末端的噴氣孔橫截面的面積為0.12-200mm²，噴氣孔中的保護氣體壓力為0.01-0.4kg/cm²。

4.根據權利要求3所述的裝置，其特征在于所述噴氣頭末端的噴氣孔橫截面積為0.15-150 mm²，噴氣孔的保護氣體壓力為0.1-0.3kg/cm²。

5.根據權利要求3所述的裝置，其特征在于所述噴氣孔的橫截面為圓形，圓形的直徑范圍為0.1-5.0mm。

6.根據權利要求3所述的裝置，其特征在于所述噴氣孔的橫截面為方形，方形的寬度為0.1-5.0mm，方形的長度為20-2000mm。

7.根據權利要求6所述的裝置，其特征在于所述方形的寬度為0.2-3mm，方形的長度為20-1000mm。

8.根據權利要求3所述的裝置，其特征在于所述噴氣頭的數量為一個或多個，每個噴氣頭分別與氣體輸送管連接。

9.根據權利要求3所述的裝置，其特征在于所述裝置還包含保護氣體的氣體發生器或氣體存儲器，該發生器或存儲器與氣體輸送管連接。

10.根據權利要求3所述的裝置，其特征在于所述裝置還包括開關、壓力調節閥、壓力測量裝置和控制系統。

11.根據權利要求10所述的裝置，其特征在于所述裝置中控制系統與開關、壓力調節閥、壓力測量裝置分別連接，連接方式為有線連接或無線連接，控制系統接收開關、壓力調節閥、壓力測量裝置所發來的信號并向開關、壓力調節閥、壓力測量裝置輸送信號。

12.一種激光直寫曝光機或UV打印機，其特征在于所述曝光機或UV打印機設置有權利要求3-11任一項所述的阻止氧阻聚裝置，并且阻止氧阻聚裝置中的噴氣頭設置于曝光機或UV打印機的裝載基材的平臺所在平面的上方。

13.根據權利要求12所述的激光直寫曝光機或UV打印機，其特征在于所述阻止氧阻聚裝置上的一個或多個噴氣頭均設置于裝載基材的平臺所在平面的上方，或當噴氣頭數量為多個時，在裝載基材的平臺的正上方以及在側上方分別設置噴氣頭，噴氣頭上噴氣孔所對應的方向為裝置基材的平臺的基材所在位置。

14.根據權利要求12所述的激光直寫曝光機或UV打印機，其特征在于所述噴氣孔與裝載基材的平臺的表面的距離為1-50cm，優選的為2-10cm，或者，基材的表面與噴氣孔的距離為1-50cm，優選的為2-10cm。

15.根據權利要求12所述的激光直寫曝光機或UV打印機，其特征在于所述阻止氧阻聚裝置中的噴氣頭通過噴氣頭固定部件與發光裝置固定在一起，隨著發光裝置的移動而移動。