[發明專利]半導體存儲裝置有效
| 申請號: | 201710550232.8 | 申請日: | 2017-07-07 |
| 公開(公告)號: | CN107658303B | 公開(公告)日: | 2021-10-15 |
| 發明(設計)人: | 內海哲章;磯部克明 | 申請(專利權)人: | 東芝存儲器株式會社 |
| 主分類號: | H01L27/11524 | 分類號: | H01L27/11524;H01L27/11551;H01L27/1157;H01L27/11578 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人: | 楊林勛 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 存儲 裝置 | ||
1.一種半導體存儲裝置,其特征在于包含:
多根字線,在第1方向積層;
半導體層,貫穿所述多根字線而在所述第1方向延伸;
源極線,電連接于所述半導體層;及
晶體管,與所述多根字線一起配置于所述第1方向,并包含柵極電極、以及位于其兩側的源極區域及漏極區域;
第4接觸體,貫穿所述源極線及所述多根字線而在所述第1方向延伸,并電連接于所述源極區域及漏極區域的一者;
第5接觸體,貫穿所述多根字線而在所述第1方向延伸,并電連接于所述源極線;及
第3配線,將所述第4接觸體與所述第5接觸體電連接;且
所述源極線位于所述晶體管與所述多根字線之間,并電連接于所述源極區域及漏極區域的一者;
所述多根字線位于所述第3配線與所述源極線之間。
2.根據權利要求1所述的半導體存儲裝置,其特征在于:
還具有設置于所述晶體管與所述源極線之間的第1配線,且
所述源極線經由所述第1配線而電連接于所述源極區域及漏極區域的一者。
3.根據權利要求1所述的半導體存儲裝置,其特征在于:
還包含電連接于所述源極線的端部,并在所述第1方向延伸的第3接觸體,且
所述源極線的所述端部與所述多根字線的端部一起呈階梯狀而設置。
4.根據權利要求1所述的半導體存儲裝置,其特征在于:
所述第4接觸體位于所述晶體管與所述第3配線層之間。
5.根據權利要求1所述的半導體存儲裝置,其特征在于:
所述第4接觸體及所述第5接觸體包含金屬。
6.根據權利要求1所述的半導體存儲裝置,其特征在于:
還包含設置于所述源極線與所述晶體管之間,并電連接于所述源極區域及漏極區域的一者、以及所述第4接觸體的第4配線,且
所述第5接觸體位于所述第3配線與所述第4配線之間。
7.根據權利要求1所述的半導體存儲裝置,其特征在于:
還包含電連接于所述半導體層的位線,且
所述多根字線位于所述源極線與所述位線之間,
所述第3配線屬于與所述位線相同的配線層。
8.根據權利要求1所述的半導體存儲裝置,其特征在于還包含:
第6接觸體,貫穿所述源極線及所述多根字線而在所述第1方向延伸,并電連接于所述源極區域及漏極區域的另一者;及
第5配線,電連接于所述第6接觸體;且
所述多根字線位于所述第5配線與所述源極線之間。
9.根據權利要求8所述的半導體存儲裝置,其特征在于:
所述第5配線向所述源極線供給特定電位。
10.根據權利要求8所述的半導體存儲裝置,其特征在于:
還包含電連接于所述源極線的端部,并在所述第1方向延伸的第7接觸體,且所述源極線的所述端部與所述多根字線的端部一起呈階梯狀而設置。
11.根據權利要求1所述的半導體存儲裝置,其特征在于:
所述源極線是與所述第1方向交叉的板狀的導體。
12.根據權利要求11所述的半導體存儲裝置,其特征在于:
所述源極線包含金屬或導電性的多晶硅。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





