[發明專利]成膜裝置

有效

• 申請號: 201710549221.8
• 申請日: 2017-07-07
• 公開（公告）號: CN107587105B
• 公開（公告）日: 2022-01-07
• 發明（設計）人: 石井博
• 申請（專利權）人: 佳能特機株式會社
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 朱龍

本發明提供一種通過分別調整第一構件和第二構件的高度，即便是大型的掩模支承體也能夠簡單地確保掩模支承面的平坦度的掩模支承體、成膜裝置及成膜方法。掩模支承體對成膜用的掩模(1)進行支承，其中，所述掩模支承體具有第一構件(3)、設置在所述第一構件(3)上的由多個構件構成的第二構件(4)、以及設置在所述第一構件(3)與所述第二構件(4)之間的高度調整用具(5)，通過所述高度調整用具(5)來調整構成所述第二構件(4)的多個構件間的高度，在構成所述第二構件(4)的多個構件的表面支承所述掩模(1)。

技術領域

本發明涉及掩模支承體、成膜裝置及成膜方法。

背景技術

在例如專利文獻1公開的成膜裝置中，通過將從成膜源放出的成膜材料經由被支承于掩模支承體的掩模而堆積在被支承于基板支承體的基板上來進行成膜，當掩模變形時，會引起基板與掩模的緊貼程度的下降，導致制品不良。

因此，對掩模進行支承的框狀的掩模支承體的平坦度比較重要，故對掩模支承體實施使用了研磨機等的平坦化加工來確保平坦度。

【在先技術文獻】

【專利文獻】

【專利文獻1】日本特開2012-33468號公報

發明內容

【發明要解決的課題】

然而，伴隨著近年來的基板的大型化，掩模支承體也大型化，為了確保平坦度，機械加工要花費巨大的時間和費用。

本發明鑒于上述的現狀而作出，其目的在于提供一種即便是大型的掩模支承體也能夠簡單地確保掩模支承面的平坦度的掩模支承體、成膜裝置及成膜方法。

【用于解決課題的方案】

一種掩模支承體，所述掩模支承體對成膜用的掩模進行支承，其特征在于，所述掩模支承體具有第一構件、設置在所述第一構件上的由多個構件構成的第二構件、以及設置在所述第一構件與所述第二構件之間的高度調整用具，通過所述高度調整用具來調整構成所述第二構件的多個構件間的高度，在構成所述第二構件的多個構件的表面支承所述掩模。

【發明效果】

本發明由于如上所述構成，因此成為通過分別調整第一構件和第二構件的高度，即便是大型的掩模支承體也能夠簡單地確保掩模支承面的平坦度的掩模支承體、成膜裝置及成膜方法。

附圖說明

圖1是本實施例的概略說明剖視圖。

圖2是本實施例的主要部分的分解說明立體圖。

圖3是另一例的概略說明剖視圖。

【符號說明】

1 掩模

2 掩模支承體

3 第一構件

4 第二構件

5 高度調整用具

6 成膜源(蒸發源)

7 基板

8 基板支承體

9 真空槽

具體實施方式

基于附圖，示出本發明的作用并簡單地說明考慮為優選的本發明的實施方式。

第一構件3及第二構件4中的至少任一方由多個構件構成，由此即便整體為大型，也能夠使構成第一構件3或第二構件4的各構件成為能夠安裝到普及品的小型加工裝置的程度的尺寸，能夠使它們在短時間內廉價且高精度地進行平坦化。