[發明專利]對準標記的檢測方法、對準方法及蒸鍍方法

有效

• 申請號: 201710548743.6
• 申請日: 2017-07-07
• 公開（公告）號: CN107587103B
• 公開（公告）日: 2020-09-04
• 發明（設計）人: 小林康信
• 申請（專利權）人: 佳能特機株式會社
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 朱龍

1.一種對準標記的檢測方法，其特征在于，

所述對準標記的檢測方法包括：用于使用光學機構而檢測設有對準標記以及不同于所述對準標記的另外的標記的基體上的所述對準標記與所述另外的標記的第一檢測工序；在所述第一檢測工序之后，在未檢測到所述對準標記的情況下，使所述基體移動的第一移動工序；以及用于使用所述光學機構而再次檢測所述對準標記的第二檢測工序，

當在所述第一檢測工序中檢測到所述另外的標記時，在所述第一移動工序中，使所述基體移動比未檢測到所述另外的標記時的移動量少的移動量。

2.根據權利要求1所述的對準標記的檢測方法，其特征在于，

所述對準標記的檢測方法包括：在所述第二檢測工序之后，在未檢測到所述對準標記的情況下，基于該第二檢測工序中的判定結果而使所述基體移動的第二移動工序；以及用于使用所述光學機構而再次檢測所述對準標記與所述另外的標記的第三檢測工序。

3.根據權利要求2所述的對準標記的檢測方法，其特征在于，

所述第二移動工序是使所述基體返回到所述第一移動工序中的移動之前的位置，并使所述基體向與所述第一移動工序中的移動不同的方向移動的工序。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的對準標記的檢測方法，其特征在于，

所述另外的標記被設置在通過所述光學機構能夠與所述對準標記同時檢測的位置。

5.一種對準方法，所述對準方法設置具有第一對準標記的第一基體及具有第二對準標記和不同于所述第二對準標記的另外的標記的第二基體，使用光學機構來檢測所述第一對準標記、所述第二對準標記以及所述另外的標記，進行所述第一基體與所述第二基體的對準，其特征在于，

所述對準方法包括：

第一檢測工序，其用于使用所述光學機構而檢測所述第一對準標記、所述第二對準標記以及所述另外的標記；

第一移動工序，其在所述第一檢測工序之后，在未檢測到所述第一對準標記或所述第二對準標記的情況下，至少使所述第一基體或所述第二基體移動；

第二檢測工序，其用于使用所述光學機構而再次檢測所述第一對準標記和所述第二對準標記；

測量工序，其對于檢測到的所述第一對準標記與所述第二對準標記的相對位置進行測量；以及

對準工序，其基于所述測量工序的結果，使所述第一基體或所述第二基體移動，進行所述第一基體與所述第二基體的相對位置的調整，

當在所述第一檢測工序中未能檢測到所述第二對準標記卻檢測到所述另外的標記時至少使所述第一基體或所述第二基體移動的所述第一移動工序中，至少使所述第一基體或所述第二基體移動比當在所述第一檢測工序中未能檢測到所述第二對準標記也未檢測到所述另外的標記時的移動量少的移動量。

6.根據權利要求5所述的對準方法，其特征在于，

所述對準方法包括：第二移動工序，其在所述第二檢測工序之后，在未能檢測到所述第一對準標記或所述第二對準標記的情況下，至少使所述第一基體或所述第二基體移動；以及第三檢測工序，其用于使用所述光學機構而再次檢測所述第一對準標記、所述第二對準標記以及所述另外的標記。

7.根據權利要求6所述的對準方法，其特征在于，

所述第二移動工序是使通過所述第一移動工序而移動的基體返回到所述第一移動工序中的移動之前的位置，并使所述基體向與所述第一移動工序中的移動不同的方向移動的工序。

8.根據權利要求5所述的對準方法，其特征在于，

所述第一移動工序是在所述第一檢測工序中判定為未檢測到所述第一對準標記或所述第二對準標記的檢測錯誤的情況下進行的工序，所述檢測錯誤是由于所述第一對準標記以及所述第二對準標記重疊而產生的檢測錯誤。