[發明專利]全自動穩定型匣缽外表面打磨裝置

在審

• 申請號: 201710547614.5
• 申請日: 2017-07-06
• 公開（公告）號: CN107214584A
• 公開（公告）日: 2017-09-29
• 發明（設計）人: 肖文臺
• 申請（專利權）人: 衡東縣湘峰陶瓷有限公司
• 主分類號: B24B19/00
• 分類號: B24B19/00;B24B41/06;B24B49/16;B24B55/00;B24B55/06
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及匣缽加工裝置領域，特別涉及一種全自動穩定型匣缽外表面打磨裝置。

背景技術

匣缽是生產碗的必要工具，但是目前的匣缽在市場出來之后，其外表面具有一定的粗糙度，需要將其外表面打磨光滑。目前一般都是采取人工打磨方式進行打磨，其效率低下，人工成本高。

發明內容

本發明的目的在于針對現有技術的上述不足和缺陷，提供一種全自動穩定型匣缽外表面打磨裝置，已解決上述問題。

本發明所解決的技術問題可以采用以下技術方案來實現：

全自動穩定型匣缽外表面打磨裝置，其特征在于，包括：

機架；

設置在所述機架上打磨裝置，所述打磨裝置的頂部輸出端可拆卸連接有打磨下模，所述打磨裝置的底部設置有彈性復位裝置，所述打磨裝置的底部與所述機架之間設置有導向柱；

通過升降裝置設置在所述打磨下模上方的壓頭，所述壓頭與所述升降裝置之間可拆卸連接；

設置在所述機架上用以控制所述升降裝置升降的控制裝置；

設置在所述打磨裝置底部的壓力開關，所述壓力開關與所述打磨裝置的啟動開關連接；

設置在所述機架上的負壓吸灰裝置。

在本發明的一個優選實施例中，所述打磨下模的內打磨面為與匣缽外表面輪廓相適應的錐形打磨面。

在本發明的一個優選實施例中，所述打磨裝置的頂部輸出端與所述打磨下模之間通過卡扣連接，所述壓頭與所述升降裝置之間通過卡扣連接。

在本發明的一個優選實施例中，所述彈性復位裝置為彈簧。

由于采用了如上的技術方案，工作時，只需將需要打磨的匣缽放置在打磨下模上，通過控制裝置即可使得升降裝置下降，當壓頭將打磨下模下壓使得打磨裝置的底部觸發壓力開關時，打磨下模工作對匣缽的外表面進行打磨，大大提高了打磨效率，而且代替人工打磨，降低了勞動力，而且也能防止打磨下模誤傷工作人員。而且本發明的打磨下模和壓頭均可更換，能夠根據不同型號的匣缽而更換，通用性強。而且本發明的導向柱不僅能夠起到導向作用，而且還能起到穩定打磨裝置防止震動的作用。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是本發明一種實施例的結構示意圖。

具體實施方式

為了使本發明實現的技術手段、創作特征、達成目的與功效易于明白了解，下面進一步闡述本發明。

參見圖1所示的全自動穩定型匣缽外表面打磨裝置，包括機架100，機架100上設置有打磨裝置200，打磨裝置200的頂部輸出端210可拆卸連接有打磨下模300，打磨裝置200的頂部輸出端210與打磨下模300之間通過卡扣211連接。打磨裝置200的底部設置有彈性復位裝置800，彈性復位裝置800為彈簧。打磨裝置200的底部設置有壓力開關900，壓力開關900與打磨裝置200的啟動開關連接。壓頭400通過升降裝置500設置在打磨下模300上方，壓頭400與升降裝置500之間通過卡扣410可拆卸連接。機架100上設置有控制裝置600，控制裝置600用以控制升降裝置500升降。機架100上還設置有負壓吸灰裝置700，用以對打磨后的打磨下模300的內打磨面310進行吸灰處理，負壓吸灰裝置700具有一吸灰軟管710。本實施例中的打磨下模300的內打磨面310為與匣缽1外表面輪廓相適應的錐形打磨面。打磨裝置200的底部與機架100之間設置有導向柱110，不僅能夠起到導向作用，而且還能起到穩定打磨裝置200防止震動的作用。

工作時，只需將需要打磨的匣缽1放置在打磨下模300上，通過控制裝置600即可使得升降裝置500下降，當壓頭400將打磨下模300下壓使得打磨裝置200的底部觸發壓力開關900時，打磨下模300工作對匣缽1的外表面進行打磨，大大提高了打磨效率，而且代替人工打磨，降低了勞動力，而且也能防止打磨下模300誤傷工作人員。而且本發明的打磨下模300和壓頭400均可更換，能夠根據不同型號的匣缽而更換，通用性強。

以上顯示和描述了本發明的基本原理和主要特征和本發明的優點。本行業的技術人員應該了解，本發明不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本發明的原理，在不脫離本發明精神和范圍的前提下，本發明還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本發明范圍內。本發明要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定。