[發明專利]一種觸控面板及其制備方法和顯示裝置

有效

• 申請號: 201710546182.6
• 申請日: 2017-07-06
• 公開（公告）號: CN109212802B
• 公開（公告）日: 2021-05-18
• 發明（設計）人: 胡海峰;張明;曾亭;殷劉岳;陳璀;張由婷
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333;G02F1/1343;G06F3/041;H01L27/32
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 羅瑞芝;陳源

本發明提供一種觸控面板及其制備方法和顯示裝置。該觸控面板的制備方法包括：步驟S102：采用納米打印方法在基底上打印形成納米級線寬的第一金屬電極線；步驟S103：采用納米打印方法在完成步驟S102的基底上打印形成納米級線寬的第二金屬電極線；第一金屬電極線和第二金屬電極線相互交叉，能使觸控面板實現互電容觸控。該觸控面板的制備方法通過采用納米打印方法形成第一金屬電極線和第二金屬電極線，能使第一金屬電極線和第二金屬電極線的圖形和線寬保持一致，避免出現由多個金屬膜層構成的金屬電極線的圖形或線寬不一致的現象，從而不僅避免出現金屬電極線拖尾現象和消影不良現象，提升了觸控面板的觸控性能和觸控顯示效果。

技術領域

本發明涉及觸控顯示技術領域，具體地，涉及一種觸控面板及其制備方法和顯示裝置。

背景技術

目前觸控透明電極材料主要為氧化銦錫(ITO)，但隨著觸控面板尺寸的增大，ITO方阻無法滿足大尺寸觸控面板數據處理的要求。金屬觸控電極具備優良的導電性能，在中大尺寸的觸控面板市場，替代ITO作為觸控面板的觸控電極成為一種趨勢。

但由于金屬觸控電極的透光效果較差，所以金屬觸控電極的圖形通常設置為較細的線條狀；同時，由于金屬觸控電極通常具有相對較高的光線反射率，所以觸控面板上的金屬觸控電極通常設置為由多個不同材料的金屬膜層相互疊覆構成，位于外側表面的金屬膜層在制備時使其具備較低的光線反射率，以對金屬觸控電極起到顯示時的消影作用。傳統的金屬觸控電極的制備方法是通過構圖工藝，即通過金屬膜層沉積、曝光、顯影和刻蝕等的步驟制備形成觸控電極的圖形。

在金屬觸控電極的制備過程中，由于構成金屬觸控電極的多個金屬膜層在刻蝕過程中的刻蝕速率不同，刻蝕后金屬觸控電極容易出現各個金屬膜層的圖形或線寬不一致的現象，從而造成該觸控面板在應用于觸控顯示時出現金屬線拖尾的現象，影響顯示效果；同時由于各個金屬膜層在刻蝕后的圖形或線寬不一致，還會導致起消影作用的外側表面的金屬膜層無法完全遮擋夾設于中間的光線反射率較高的金屬膜層，從而造成金屬觸控電極的消影不良；進而影響觸控面板的消影及觸控性能，降低觸控面板的良率。

發明內容

本發明針對現有技術中存在的上述技術問題，提供一種觸控面板及其制備方法和顯示裝置。該觸控面板的制備方法，通過采用納米打印方法形成第一金屬電極線和第二金屬電極線，能使第一金屬電極線和第二金屬電極線的圖形和線寬保持一致，避免出現由多個金屬膜層構成的金屬電極線的圖形或線寬不一致的現象，從而不僅避免出現該觸控面板在應用于觸控顯示時的金屬電極線拖尾現象，提升了觸控面板的觸控性能和觸控顯示效果；而且還能避免出現由多個金屬膜層構成的金屬電極線的消影不良現象，提高了觸控體驗。

本發明提供一種觸控面板的制備方法，包括：

步驟S102：采用納米打印方法在基底上打印形成納米級線寬的第一金屬電極線；

步驟S103：采用所述納米打印方法在完成所述步驟S102的所述基底上打印形成納米級線寬的第二金屬電極線；

所述第一金屬電極線和所述第二金屬電極線相互交叉，能使所述觸控面板實現互電容觸控。

優選地，在所述步驟S102之前還包括：

步驟S101：采用所述納米打印方法在所述基底上打印形成納米級線寬的第一消影線；所述第一消影線與所述第一金屬電極線形成于所述基底的同一側；

在所述步驟S102之后且在所述步驟S103之前還包括：

步驟S102′：采用所述納米打印方法在所述第一金屬電極線上打印形成納米級線寬的第二消影線；

所述第一消影線和所述第二消影線在所述基底上的正投影完全覆蓋所述第一金屬電極線。

優選地，所述第一金屬電極線和所述第二金屬電極線形成于所述基底的同一側；