[發(fā)明專利]管徑和壁厚可控的金屬微米管/納米管及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710542334.5 | 申請(qǐng)日： | 2017-07-05 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN107313022A | 公開（公告）日： | 2017-11-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 楊峰;張曉峰;崔立山 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 中國石油大學(xué)(北京) |
| 主分類號(hào)： | C23C14/58 | 分類號(hào)： | C23C14/58;C23C14/35;C23C14/20;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11127 | 代理人： | 姚亮,沈金輝 |
| 地址： | 102249*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 可控 金屬 微米 納米 及其 制備 方法 | ||
1.一種管徑和壁厚可控的金屬微米管的制備方法，其特征在于，該管徑和壁厚可控的金屬微米管的制備方法包括以下步驟：
將5g濕巾分別浸入到50mL-100mL的丙酮溶液、50mL-100mL的無水乙醇溶液和50mL-100mL的HCl溶液中超聲5min-20min，清洗、干燥；
向濕巾上噴射金屬膜；制備金屬膜時(shí)是在磁控濺射儀器中進(jìn)行，其中，磁控濺射的氣壓為5.1×10-3Pa，氬氣流量為15sccm-30sccm，濺射功率為100W-250W，濺射時(shí)間為0.5min-6min；
在空氣氣氛中進(jìn)行退火處理，得到粗產(chǎn)品；退火處理是在400℃-500℃下加熱0.5h-2h，然后隨爐自然冷卻，其中，升溫速率為1℃/min-10℃/min；
將粗產(chǎn)品在HCl溶液中浸泡，清洗、干燥，得到管徑和壁厚可控的金屬微米管。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的管徑和壁厚可控的金屬微米管的制備方法，其特征在于，HCl溶液的濃度為0.5mol/L-5mol/L。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的管徑和壁厚可控的金屬微米管的制備方法，其特征在于，HCl溶液的濃度為1mol/L。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的管徑和壁厚可控的金屬微米管的制備方法，其特征在于，退火處理是在500℃下加熱1h，其中，升溫速率為2℃/min。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的管徑和壁厚可控的金屬微米管的制備方法，其特征在于，所述干燥是在50℃-100℃下干燥6h-24h。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的管徑和壁厚可控的金屬微米管的制備方法，其特征在于，干燥是在60℃下干燥12h。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
