[發(fā)明專利]光致抗蝕劑顯影液組合物及光致抗蝕劑圖案形成方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710540953.0
• 申請日: 2017-07-05
• 公開（公告）號: CN107870524B
• 公開（公告）日: 2022-01-21
• 發(fā)明（設計）人: 李喻珍;魯京奎
• 申請（專利權）人: 東友精細化工有限公司
• 主分類號: G03F7/32
• 分類號: G03F7/32
• 代理公司: 北京銀龍知識產(chǎn)權代理有限公司 11243
• 代理人: 金鮮英;宋海花

1.一種光致抗蝕劑顯影液組合物，其包含下述化學式I的化合物、作為非離子性表面活性劑的下述化學式II的化合物、堿性化合物和水，

化學式I

所述化學式I中，

R₁和R₂各自獨立地為-OM、碳原子數(shù)1～18的烷基或烷氧基、酚基、碳原子數(shù)5～8的環(huán)狀烷基或-O-[CH₂-CH₂-O]_n-R₃，

R₁和R₂中至少一個為-OM，

R₃為氫、碳原子數(shù)1～18的烷基或烷氧基、被碳原子數(shù)1～18的烷基取代的苯基或碳原子數(shù)5～8的環(huán)狀烷基，

M為氫、銨、堿金屬或堿土金屬，

n為1～20的整數(shù)，

化學式II

所述化學式II中，

A為亞乙基，

B為亞丙基，

m為1～3的整數(shù)，

p和q各自獨立地為0～30的整數(shù)，

p+q為1～30的整數(shù)。

2.根據(jù)權利要求1所述的光致抗蝕劑顯影液組合物，其包含1～20重量％的化學式I的化合物、1～20重量％的非離子性表面活性劑、1～20重量％的堿性化合物和余量的水。

3.根據(jù)權利要求1所述的光致抗蝕劑顯影液組合物，m為1，p為1～5的整數(shù)，且q為0。

4.根據(jù)權利要求1所述的光致抗蝕劑顯影液組合物，所述堿性化合物包含無機堿性化合物和有機堿性化合物中的一種以上。

5.根據(jù)權利要求4所述的光致抗蝕劑顯影液組合物，所述無機堿性化合物包含選自由氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀、氫氧化鈣和氫氧化鋇組成的組中的一種以上。

6.根據(jù)權利要求4所述的光致抗蝕劑顯影液組合物，所述有機堿性化合物包含選自由四烷基氫氧化銨、烷基胺和烷醇胺組成的組中的一種以上。

7.根據(jù)權利要求6所述的光致抗蝕劑顯影液組合物，所述有機堿性化合物包含選自由四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、乙基胺、二乙基胺、三乙基胺、異丙基胺、乙醇胺、2-二甲基氨基乙醇、2-二乙基氨基乙醇和2-二異丙基氨基乙醇組成的組中的一種以上。

8.一種光致抗蝕劑圖案形成方法，其包括：

(a)在基板上涂布光致抗蝕劑而形成膜的步驟；

(b)將所述光致抗蝕劑膜曝光的步驟；及

(c)將所述曝光后的光致抗蝕劑膜用權利要求1～7中任一項所述的光致抗蝕劑顯影液組合物進行顯影的步驟。