[發明專利]一種基于面內諧振的MEMS流體黏度傳感器芯片及其制備方法有效
| 申請號: | 201710538627.6 | 申請日: | 2017-07-04 |
| 公開(公告)號: | CN107271332B | 公開(公告)日: | 2019-10-11 |
| 發明(設計)人: | 趙立波;黃琳雅;胡英杰;李支康;趙玉龍;蔣莊德 | 申請(專利權)人: | 西安交通大學 |
| 主分類號: | G01N11/16 | 分類號: | G01N11/16 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責任公司 61200 | 代理人: | 陸萬壽 |
| 地址: | 710049 陜*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 諧振 mems 流體 黏度 傳感器 芯片 及其 制備 方法 | ||
1.一種基于面內諧振的MEMS流體黏度傳感器芯片,其特征在于,包括H型硅微雙端固支梁結構和硅基底(6);H型硅微雙端固支梁結構包括振子(1)、設置于振子(1)兩側的四個彈性固支梁和導線(7~8);
四個彈性固支梁包括第一彈性固支梁(2)、第二彈性固支梁(3)、第三彈性固支梁(4)和第四彈性固支梁(5);第一彈性固支梁(2)和第二彈性固支梁(3)平行設置于矩形的振子(1)一側,第三彈性固支梁(3)和第四彈性固支梁(4)平行設置于矩形的振子(1)另一側;第一彈性固支梁(2)和第四彈性固支梁(5)位于同一直線上;第二彈性固支梁(3)和第三彈性固支梁(4)位于同直線上;振子(1)和四個彈性固支梁呈H型;導線(7~8)包括兩條,一條設置于第一彈性固支梁(2)和第四彈性固支梁(5)上,另一條設置于第二彈性固支梁(3)和第三彈性固支梁(4)上;
H型硅微雙端固支梁結構的四個彈性固支梁末端固定于硅基底(6)的空腔中;
測量流體黏度時,基于面內諧振的MEMS流體黏度傳感器芯片浸入被測流體中,H型硅微雙端固支梁結構中振子(1)的振動方向為y方向,z方向垂直于振子(1)上表面,x方向平行于彈性固支梁的長度方向;x方向、y方向和z方向相互垂直構成直角坐標系;
被測流體的黏度ηf為:
其中,ηf與ρf分別為待測流體的測量黏度和測量密度,C為常數,ff為H型雙端固支梁在流體中的諧振頻率,Qf和Qvac分別為H型雙端固支梁在被測流體和真空環境中的品質因子;
被測流體的密度ρf為:
其中,f為H型硅微雙端固支梁結構的本征頻率,h、l和ρc分別為H型硅微雙端固支梁結構的厚度、長度和密度,w為彈性固支梁的寬度,E為H型硅微雙端固支梁結構的楊氏模量,ffluid為H型硅微雙端固支梁結構在被測流體中的諧振頻率;
公式(1)中將ηf與ρf替換為待測液體的參考值,其它參數代入測試值,計算出常數C;
所述基于面內諧振的MEMS流體黏度傳感器芯片能夠實現面內振動,且與被測流體之間為滑膜阻尼。
2.根據權利要求1所述的一種基于面內諧振的MEMS流體黏度傳感器芯片,其特征在于,所述硅基底(6)底部外加磁鐵,用于為傳感器芯片提供外界恒定磁場,磁場方向垂直于傳感器芯片平面。
3.根據權利要求1所述的一種基于面內諧振的MEMS流體黏度傳感器芯片,其特征在于:所述振子(1)為矩形截面質量塊,測量時在流體中進行面內振動,振動方向平行于傳感器芯片平面。
4.根據權利要求1所述的一種基于面內諧振的MEMS流體黏度傳感器芯片,其特征在于,兩根導線中一根導線通入正弦交變電流,則所在的彈性固支梁在恒定磁場內受交變洛倫茲力做面內振動,振動方向平行于傳感器芯片平面,并帶動振子和另一側固支梁產生受迫振動;另一根導線在磁場中切割磁感線產生感應電動勢。
5.根據權利要求1所述的一種基于面內諧振的MEMS流體黏度傳感器芯片,其特征在于,兩根導線的末端均設有焊盤,焊盤布置于硅基底(6)上,用于和外接電路的連接。
6.根據權利要求1所述的一種基于面內諧振的MEMS流體黏度傳感器芯片,其特征在于,H型硅微雙端固支梁結構和硅基底(6)上表面覆蓋一層氮化硅絕緣保護層。
7.根據權利要求1所述的一種基于面內諧振的MEMS流體黏度傳感器芯片,其特征在于,振子(1)和設置于振子(1)兩側的四個彈性固支梁由單晶硅制成。
8.權利要求1至7中任一項所述的一種基于面內諧振的MEMS流體黏度傳感器芯片的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
1)將p型(100)晶面SOI片清洗干凈;SOI片從上到下分為三層:上層單晶硅(13)、二氧化硅埋層(14)和下層單晶硅(15);
2)在900℃~1200℃下對SOI片進行雙面氧化,得到二氧化硅層(16);
3)采用RIE等離子刻蝕技術去除SOI片頂層的部分二氧化硅層(16),裸露出與導線(7~8)形狀相同的部分上層單晶硅(13),然后在SOI片頂層表面濺射制作金屬層(17),再采用剝離工藝形成傳感器芯片的金屬導線;
4)采用DRIE深反應離子刻蝕技術,在SOI片正面形成結構層;
5)使用KOH濕法工藝刻蝕背腔至自停止層;
6)采用HF緩沖溶液濕法刻蝕,釋放H形雙端固支梁;獲得基于面內諧振的MEMS流體黏度傳感器芯片。
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