[發明專利]一種減反射結構的制備方法和減反射結構在審
| 申請號： | 201710536611.1 | 申請日： | 2017-07-04 |
| 公開（公告）號： | CN107140842A | 公開（公告）日： | 2017-09-08 |
| 發明（設計）人： | 周婷婷;張斌 | 申請（專利權）人： | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號： | C03C17/00 | 分類號： | C03C17/00 |
| 代理公司： | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司11112 | 代理人： | 劉悅晗,陳源 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 反射 結構 制備 方法 | ||
1.一種減反射結構的制備方法，其特征在于，包括：
將多個顆粒與聚合物溶液混合；
在基板上涂覆所述混合有多個顆粒的聚合物溶液；
對所述混合有多個顆粒的聚合物溶液進行固化，以形成聚合物薄膜，所述顆粒裸露于所述聚合物薄膜之外。
2.根據權利要求1所述的減反射結構的制備方法，其特征在于，通過旋涂工藝在所述基板上涂覆所述混合有多個顆粒的聚合物溶液。
3.根據權利要求1所述的減反射結構的制備方法，其特征在于，所述對所述混合有多個顆粒的聚合物溶液進行固化，具體包括：
對所述混合有多個顆粒的聚合物溶液進行加熱、低壓或紫外光照處理。
4.一種減反射結構，形成在基板上，其特征在于，包括形成在所述基板上的摻雜有多個顆粒的聚合物薄膜，所述顆粒裸露于所述聚合物薄膜之外。
5.根據權利要求4所述的減反射結構，其特征在于，所述顆粒為納米粒子。
6.根據權利要求5所述的減反射結構，其特征在于，所述顆粒的裸露于所述聚合物薄膜之外的部分的體積，在鄰近所述聚合物薄膜的方向上逐漸增大。
7.根據權利要求6所述的減反射結構，其特征在于，所述顆粒的形狀為以下形狀之一或任意組合：球形、半球形、圓錐和圓臺。
8.根據權利要求6所述的減反射結構，其特征在于，所述顆粒裸露于所述聚合物薄膜之外部分的排布周期為200-1000nm。
9.根據權利要求4所述的減反射結構，其特征在于，所述聚合物薄膜的材料為透明材料。
10.根據權利要求4所述的減反射結構，其特征在于，所述顆粒的材料為金屬、金屬氧化物和有機化合物中的一種或多種。
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