[發(fā)明專利]光學(xué)臨近效應(yīng)的修正方法及系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710534159.5
• 申請日: 2017-07-03
• 公開（公告）號: CN109212889B
• 公開（公告）日: 2021-10-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 萬金垠
• 申請（專利權(quán)）人: 無錫華潤上華科技有限公司
• 主分類號: G03F1/36
• 分類號: G03F1/36
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 鄧云鵬

1.一種光學(xué)臨近效應(yīng)的修正方法，包括：

對設(shè)計(jì)圖形的外邊進(jìn)行解析分割獲得用于處理的片段；

獲取所述用于處理的片段的線條端的鄰邊間距，當(dāng)鄰邊間距不大于安全間距A時，不進(jìn)行目標(biāo)點(diǎn)的重設(shè)，當(dāng)所述鄰邊間距大于預(yù)設(shè)的安全間距時，將位于所述線條端的鄰邊上的目標(biāo)點(diǎn)向外移動以重新設(shè)置鄰邊上的目標(biāo)點(diǎn)的位置；當(dāng)所述鄰邊間距大于預(yù)設(shè)的安全間距A且大于預(yù)設(shè)的線條端鄰邊間距閾值C時，所述目標(biāo)點(diǎn)向外移動的距離Y為目標(biāo)點(diǎn)能夠移動的最大距離B，且C-A≥B；當(dāng)所述鄰邊間距位于A與C之間時，距離Y從0到B之間線性變化或曲線變化；所述重新設(shè)置鄰邊上的目標(biāo)點(diǎn)的位置包括重新設(shè)置與所述線條端相鄰的一條或兩條鄰邊上的目標(biāo)點(diǎn)，以更加靠近設(shè)計(jì)圖形的目標(biāo)位置；

使用鄰邊上新的目標(biāo)點(diǎn)和線條端的目標(biāo)點(diǎn)進(jìn)行線條端的修正。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)臨近效應(yīng)的修正方法，其特征在于，所述鄰邊上的目標(biāo)點(diǎn)向外移動的距離Y和鄰邊間距X的關(guān)系為：

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)臨近效應(yīng)的修正方法，其特征在于，所述修正方法用于0.18微米以下工藝。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)臨近效應(yīng)的修正方法，其特征在于，所述使用鄰邊上新的目標(biāo)點(diǎn)和線條端的目標(biāo)點(diǎn)進(jìn)行線條端的修正的步驟具體包括：根據(jù)目標(biāo)點(diǎn)的模擬誤差，調(diào)整設(shè)計(jì)圖形，直到根據(jù)調(diào)整后的設(shè)計(jì)圖形生成的模擬光刻結(jié)果符合設(shè)計(jì)目標(biāo)。

5.一種光學(xué)臨近效應(yīng)的修正系統(tǒng)，其特征在于，包括：

分割模塊，用于對設(shè)計(jì)圖形的外邊進(jìn)行解析分割獲得用于處理的片段；

目標(biāo)點(diǎn)重設(shè)模塊，用于獲取所述用于處理的片段的線條端的鄰邊間距，當(dāng)鄰邊間距不大于安全間距A時，不進(jìn)行目標(biāo)點(diǎn)的重設(shè)，當(dāng)所述鄰邊間距大于預(yù)設(shè)的安全間距時，將位于所述線條端的鄰邊上的目標(biāo)點(diǎn)向外移動以重新設(shè)置鄰邊上的目標(biāo)點(diǎn)的位置；當(dāng)所述鄰邊間距大于預(yù)設(shè)的安全間距A且大于預(yù)設(shè)的線條端鄰邊間距閾值C時，所述目標(biāo)點(diǎn)向外移動的距離Y為目標(biāo)點(diǎn)能夠移動的最大距離B，且C-A≥B；當(dāng)所述鄰邊間距位于A與C之間時，距離Y從0到B之間線性變化或曲線變化；所述重新設(shè)置鄰邊上的目標(biāo)點(diǎn)的位置包括重新設(shè)置與所述線條端相鄰的一條或兩條鄰邊上的目標(biāo)點(diǎn)，以更加靠近設(shè)計(jì)圖形的目標(biāo)位置；

修正模塊，使用鄰邊上新的目標(biāo)點(diǎn)和線條端的目標(biāo)點(diǎn)進(jìn)行線條端的修正。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)臨近效應(yīng)的修正系統(tǒng)，其特征在于，所述目標(biāo)點(diǎn)重設(shè)模塊在重設(shè)目標(biāo)點(diǎn)的位置時，所述鄰邊上的目標(biāo)點(diǎn)向外移動的距離Y和鄰邊間距X的關(guān)系為：

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)臨近效應(yīng)的修正系統(tǒng)，其特征在于，所述修正系統(tǒng)用于0.18微米以下工藝。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)臨近效應(yīng)的修正系統(tǒng)，其特征在于，所述修正模塊具體用于：根據(jù)目標(biāo)點(diǎn)的模擬誤差，調(diào)整設(shè)計(jì)圖形，直到根據(jù)調(diào)整后的設(shè)計(jì)圖形生成的模擬光刻結(jié)果符合設(shè)計(jì)目標(biāo)。