[發(fā)明專利]用于生產(chǎn)鍍膜玻璃的鍍膜段及其用途在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710533183.7 | 申請日: | 2017-07-03 |
| 公開(公告)號: | CN107235642A | 公開(公告)日: | 2017-10-10 |
| 發(fā)明(設計)人: | 井治;劉銳;王程;張超群;葛治亮;王貝 | 申請(專利權)人: | 中國建材國際工程集團有限公司 |
| 主分類號: | C03C17/00 | 分類號: | C03C17/00;C03C17/06;C03C17/23 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務所31219 | 代理人: | 張新鑫,許亦琳 |
| 地址: | 200063 上海市普*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 生產(chǎn) 鍍膜 玻璃 及其 用途 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及一種用于生產(chǎn)鍍膜玻璃的鍍膜段及其用途,特別適用于生產(chǎn)低輻射鍍膜玻璃,屬于機械領域。
背景技術
低輻射鍍膜玻璃,(Low-E玻璃)即采用物理或化學方法在玻璃表面上鍍上含有一層或兩層甚至多層膜系的金屬薄膜或金屬氧化物薄膜,來降低能量吸收或控制室內(nèi)外能量交換,保障生活、工作的舒適性,并以此達到環(huán)保節(jié)能的目的。
隨著節(jié)能減排政策的倡導,人們對低輻射鍍膜玻璃提出更高的要求。普通用于生產(chǎn)鍍膜玻璃的鍍膜段生產(chǎn)的產(chǎn)品已經(jīng)不能滿足人們提出的更高要求。大面積磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線包含許多組成部分,其中核心區(qū)域是鍍膜高真空區(qū)的工藝布置,即鍍膜段。
現(xiàn)有技術中存在鍍膜單元安裝復雜,靈活性差,隔離系數(shù)低,真空環(huán)境差、冷卻效率低等問題,例如,每個隔離腔室中所要安裝的元件都是固定的,無法隨意的拆分,當整個設備需要有所變化時,則無形中給用戶增加不必要的人力、物力和時間等成本,同時隔離系數(shù)低、真空環(huán)境差、冷卻效果低會嚴重影響制備的膜層質(zhì)量。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于以上所述現(xiàn)有技術的缺點,本發(fā)明的目的在于提供一種用于生產(chǎn)鍍膜玻璃的鍍膜段及其用途,用于解決現(xiàn)有技術中用于生產(chǎn)鍍膜玻璃的鍍膜段安裝復雜,靈活性差,隔離系數(shù)低,真空環(huán)境差、冷卻效率低等問題。
為實現(xiàn)上述目的及其他相關目的,本發(fā)明提供一種用于生產(chǎn)鍍膜玻璃的鍍膜段,所述鍍膜段至少包括:若干隔離腔室、傳輸單元、氣體隔離單元,陰極靶材、抽真空單元、以及冷卻單元;每個所述隔離腔室依次連接,每個所述隔離腔室的頂部設置可打開的蓋板,每個所述蓋板大小和形狀一致;每個所述隔離腔室的內(nèi)部設置氣體隔離單元或者陰極靶材;所述傳輸單元設置在隔離腔室內(nèi)的下部且貫通所有隔離腔室;每個裝有所述氣體隔離單元的隔離腔室上的蓋板上設置抽真空裝置;安裝有所述陰極靶材的隔離腔室內(nèi)部還設置冷卻單元。
優(yōu)選地,相鄰的兩個隔離腔室之間設置抽氣口。
優(yōu)選地,每個所述隔離腔室都是規(guī)則的6面體且大小一致。
優(yōu)選地,每個所述蓋板和所述隔離腔室之間設有密封圈。
優(yōu)選地,所述氣體隔離單元包括橫向設置的橫向隔板和縱向設置的縱向隔板,所述橫向隔板位于傳輸單元的上方,所述縱向隔板上端達到隔離腔室的頂部,下端達到橫向隔板。
優(yōu)選地,安裝有所述陰極靶材的隔離腔室內(nèi)部還設置冷卻單元,所述冷卻單元包括設置在第二隔離腔室內(nèi)下方的冷卻水管道,所述冷卻水管道與外部水源連通。
優(yōu)選地,所述傳輸單元采用傳輸輥道,所述傳輸輥道包括若干輥子。
優(yōu)選地,所述陰極靶材選自SiAl靶材、TiO靶材、SnAl靶材、ZnAl靶材、ZnSn靶材、 AZO靶材、Ni靶材、Cr靶材、NiCr靶材、Ag靶材中的任意一種或幾種
優(yōu)選地,所述陰極靶材按照SiAl靶材、ZnAl靶材、NiCr靶材、Ag靶材、NiCr靶材、 SnZn靶材、ZnAl靶材、NiCr靶材、Ag靶材、NiCr靶材、SnZn靶材、SiAl靶材順序分別安裝在隔離腔室內(nèi)。
以上順序是在玻璃上鍍膜的生產(chǎn)工藝順序,在玻璃上依次采用上述靶材鍍膜。所述分別安裝,是指在每個隔離腔室中安裝一個陰極靶材。
優(yōu)選地,所述隔離腔室共40個,并依次連接,其中第2個隔離腔室和第3個隔離腔室中設置SiAl靶材、第7個隔離腔室和第8個隔離腔室安裝ZnAl靶材、第11個隔離腔室安裝 NiCr靶材、第13個隔離腔室安裝Ag靶材、第15個隔離腔室安裝NiCr靶材、第18個隔離腔室和第19個隔離腔室安裝SnZn靶材、第22個隔離腔室和第23個隔離腔室安裝ZnAl靶材、第26個隔離腔室安裝NiCr靶材、第28個隔離腔室安裝Ag靶材、第30個隔離腔室安裝NiCr靶材、第33個隔離腔室和第34個隔離腔室安裝SnZn靶材、第38個隔離腔室和第 39個隔離腔室安裝SiAl靶材,其余的隔離腔室中安裝氣體隔離單元。
本發(fā)明的另一方面提供了上述的用于生產(chǎn)鍍膜玻璃的鍍膜段用于生產(chǎn)鍍膜玻璃的用途。
如上所述,本發(fā)明的用于生產(chǎn)鍍膜玻璃的鍍膜段及其用途,具有以下有益效果:
由于每個隔離腔室采用標準化設計,大小一致,因此,在每個蓋板以及內(nèi)部的工作單元都適用于其他隔離腔室;因此其中的氣體隔離單元也是適用于任意一個隔離腔室的。當工藝需要調(diào)整時,可以隨意調(diào)節(jié)其中所安裝的元件的位置。合理的工藝布置可以滿足:多種單、雙銀產(chǎn)品的生產(chǎn);生產(chǎn)不同的產(chǎn)品,靶材位置需要變動時,可以簡便、及時的變動;未來產(chǎn)品更新?lián)Q代,需預留一定的工藝升級空間。
附圖說明
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