[發(fā)明專利]ZrAlCN梯度復(fù)合涂層刀具及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710532651.9 | 申請(qǐng)日: | 2017-07-03 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107400865A | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-11-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 宋文龍;馬育棟;王首軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 濟(jì)寧學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | C23C14/35 | 分類號(hào): | C23C14/35;C23C14/32;C23C14/02;C23C14/06;C23C28/00 |
| 代理公司: | 青島發(fā)思特專利商標(biāo)代理有限公司37212 | 代理人: | 蔡紹強(qiáng) |
| 地址: | 272001 山東省濟(jì)寧*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | zralcn 梯度 復(fù)合 涂層 刀具 及其 制備 方法 | ||
1.一種ZrAlCN梯度復(fù)合涂層刀具,刀具基體材料為高速鋼、工具鋼、模具鋼、硬質(zhì)合金、陶瓷或立方氮化硼中的一種,其特征在于,涂層刀具由內(nèi)至外依次為刀具基體、Ti過(guò)渡層、ZrAlC過(guò)渡層和氮含量梯度漸變的ZrAlCN梯度復(fù)合涂層。
2.一種如權(quán)利要求1所述的ZrAlCN梯度復(fù)合涂層刀具的制備方法,其特征在于,沉積方式采用中頻磁控濺射和非平衡磁控濺射的復(fù)合鍍膜方法,沉積時(shí)使用2個(gè)中頻磁控濺射ZrAlC復(fù)合靶,2個(gè)非平衡磁控濺射Ti靶,首先采用非平衡磁控濺射沉積Ti過(guò)渡層,然后采用中頻磁控濺射方法依次沉積ZrAlC過(guò)渡層和氮含量梯度漸變的ZrAlCN梯度復(fù)合涂層,其制備具體步驟如下:
(1)前處理:將刀具基體表面拋光,去除表面油污、銹跡等雜質(zhì),然后依次放入酒精和丙酮中,超聲清洗各30min,去除刀具表面油污和其它附著物,電吹風(fēng)干燥充分后迅速放入鍍膜機(jī),抽真空至7.0×10-3Pa,加熱至250℃,保溫30~35min;
(2)離子清洗:通Ar氣,其壓力為1.3Pa,開(kāi)啟偏壓電源,電壓600V,占空比0.2,輝光放電清洗30min;降低偏壓至400V,占空比0.2,開(kāi)啟離子源離子清洗20min,開(kāi)啟非平衡磁控濺射Ti靶電源,Ti靶電流30A,偏壓300V,離子轟擊1~2min;
(3)沉積Ti過(guò)渡層:調(diào)整Ar氣氣壓0.6~0.7Pa,偏壓降至250V,Ti靶電流35A,沉積溫度250℃,非平衡磁控濺射Ti過(guò)渡層4~5min;
(4)沉積ZrAlC過(guò)渡層:調(diào)整Ar氣Ar氣壓0.5~0.6Pa,偏壓調(diào)至200V,關(guān)閉非平衡磁控濺射Ti靶電源,開(kāi)啟中頻磁控濺射,ZrAlC靶電流30A,沉積ZrAlC過(guò)渡層層4~5min;
(5)沉積ZrAlCN梯度復(fù)合層:開(kāi)啟N2,N2氣壓為0.8Pa,Ar氣壓0.6~0.7Pa,偏壓220V,ZrAlC靶電流35A,沉積溫度220℃,沉積ZrAlCN復(fù)合層9~10min,其它參數(shù)不變,升高N2氣壓,N2氣壓每次升高0.1Pa,沉積ZrAlCN復(fù)合層9~10min,直至N2氣壓升至1.6Pa,再沉積ZrAlCN復(fù)合層9~10min;
(6)后處理:關(guān)閉各電源、離子源及氣體源,涂層結(jié)束。
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- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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