[發(fā)明專利]一種氬氣流量控制方法及控制系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710532544.6
• 申請日: 2017-07-03
• 公開（公告）號: CN107518942A
• 公開（公告）日: 2017-12-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 徐松;童萬里;陽長永;潘詠濤
• 申請（專利權(quán)）人: 重慶金山醫(yī)療器械有限公司
• 主分類號: A61B18/12
• 分類號: A61B18/12;G05D7/06
• 代理公司: 重慶市前沿專利事務(wù)所(普通合伙)50211
• 代理人: 王丹

1.一種氬氣流量控制方法，其特征在于：包括以下步驟：

S1，向氬氣噴管里輸入氬氣，將氬氣噴管內(nèi)殘留的氣體排除干凈；

S2，持續(xù)向氬氣噴管里輸入氬氣，輸出高頻電壓點火，對氬氣進行電離；

S3，點火完成后，向氬氣噴管內(nèi)輸入流量值可調(diào)的氬氣脈沖流，使氬氣電離狀態(tài)維持在火花放電狀態(tài)，或者介于火花放電與電弧放電狀態(tài)之間。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氬氣流量控制方法，其特征在于：步驟S3中的流量值可調(diào)的氬氣脈沖流為高流量和低流量交替變化的氬氣流。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氬氣流量控制方法，其特征在于：所述高流量為設(shè)定的氬氣流量值，所述低流量介于零到二分之一高流量之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的氬氣流量控制方法，其特征在于：所述氬氣脈沖流頻率介于1～10Hz之間，占空比介于10％～50％之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氬氣流量控制方法，其特征在于：使氬氣電離狀態(tài)維持在火花放電狀態(tài)，或者介于火花放電與電弧放電狀態(tài)之間的方法為：

當氬氣脈沖流為高流量時，高頻電壓對氬氣進行充分電離，使火花放電加強，能量趨于集中，并有向電弧放電狀態(tài)轉(zhuǎn)變的趨勢，此時，氬氣流量減小為低流量，電離程度降低，抑制火花放電向電弧放電狀態(tài)轉(zhuǎn)變的趨勢；

當?shù)土髁砍掷m(xù)一段時間后，被電離的氬離子濃度降低，火花放電難以持續(xù)，此時氬氣又恢復(fù)高流量輸出；

如此往復(fù)，使氬氣電離狀態(tài)維持在火花放電狀態(tài)，或者介于火花放電與電弧放電狀態(tài)之間。

6.一種基于權(quán)利要求1-5任一項所述的氬氣流量控制方法的氬氣流量控制系統(tǒng)，其特征在于：包括氬氣輸入單元、氬氣輸出單元、流量調(diào)節(jié)單元、MCU控制單元、通信單元和電源單元，所述通信單元和MCU控制單元雙向連接，所述MCU控制單元和所述流量調(diào)節(jié)單元雙向連接，所述氬氣輸入單元輸出端連接所述流量調(diào)節(jié)單元輸入端，所述流量調(diào)節(jié)單元輸出端連接所述氬氣輸出單元輸入端，所述氬氣輸出單元輸出端連接氬氣噴管，向手術(shù)提供氬氣輸入，所述電源單元為該氬氣流量控制器提供電源，所述MCU控制單元運行權(quán)利要求1-5之一所述的控制方法。