[發明專利]一種框形件一次成形彎曲模在審
| 申請號: | 201710530555.0 | 申請日: | 2017-06-29 |
| 公開(公告)號: | CN107186079A | 公開(公告)日: | 2017-09-22 |
| 發明(設計)人: | 薛文英 | 申請(專利權)人: | 蘇州華徠光電儀器有限公司 |
| 主分類號: | B21D37/10 | 分類號: | B21D37/10 |
| 代理公司: | 南京縱橫知識產權代理有限公司32224 | 代理人: | 劉艷艷,董建林 |
| 地址: | 215153 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 框形件 一次 成形 彎曲 | ||
技術領域
本發明涉及一種框形件一次成形彎曲模。
背景技術
目前,現有的簡單的框形件次一彎曲即可成形,但由于沒有壓料裝置,壓彎時坯料容易滑動,只適用于要求不高的零件。
發明內容
目的:為了克服現有技術中存在的不足,本發明提供一種框形件一次成形彎曲模。
技術方案:為解決上述技術問題,本發明采用的技術方案為:
一種框形件一次成形彎曲模,其特征在于:包括上模座、彈簧、第一凸模、擺塊、壓塊、橫向凸模、凸模、凹模、下模座;
第一凸模的頂端與上模座活動連接,第一凸模的底端位于下模座的中間位置,下模座上從外往內依次排列凸模、凹模、第一凸模,橫向凸模設置在凸模和凹模的上方,橫向凸模的一端與凸模的頂端工作面相接觸,另一端面向第一凸模的側面,
第一凸模的頂端中部與上模座之間設置彈簧,上模座的兩側安裝有壓塊,第一凸模的側面安裝有擺塊,當壓塊向下移動時,推動擺塊下壓。
作為優選方案,所述的框形件一次成形彎曲模,其特征在于:所述下模座的中部開設有用于頂桿穿過的通孔。
作為優選方案,所述的框形件一次成形彎曲模,其特征在于:還包括頂板,頂板水平設置在兩個凸模之間的位置,與第一凸模的工作面相對應。
作為優選方案,所述的框形件一次成形彎曲模,其特征在于:所述凸模的工作面為四分之一的圓弧面,用于推動橫向凸模沿凸模的工作面運動而被迫做橫向運動。
作為優選方案,所述的框形件一次成形彎曲模,其特征在于:所述上模座與第一凸模之間還設置有導向柱。
作為優選方案,所述的框形件一次成形彎曲模,其特征在于:所述壓塊的底部還設置有調整塊,對彎曲件有校正作用。
作為優選方案,所述的框形件一次成形彎曲模,其特征在于:所述擺塊的工作面為平面結構。
有益效果:本發明提供的一種框形件一次成形彎曲模,有頂板和定位銷的框形件一次成形彎曲模,能有效防止坯料的偏移。頂板的作用是克服上、下模之間水平方向的錯移力,同時頂桿也為頂板導向,防止其竄動。毛坯放置于凹模上定位,上模下行時,第一凸模將毛坯彎曲成U形。上模繼續下行,彈簧被壓縮,橫向凸模沿凸模的工作面運動而被迫做橫向運動,彎曲c、b圓弧。接著壓塊壓下擺塊,彎曲a圓弧,行程終了對彎曲件有校正作用。
附圖說明
圖1為本發明的結構示意圖。
圖中:上模座1、彈簧2、第一凸模3、擺塊4、壓塊5、調整塊6、橫向凸模7、凸模8、凹模9、下模座10。
具體實施方式
下面結合附圖對本發明作更進一步的說明。
如圖1所示,一種框形件一次成形彎曲模,包括上模座1、彈簧2、第一凸模3、擺塊4、壓塊5、調整塊6、橫向凸模7、凸模8、凹模9、下模座10。
下模座10上依次排列凸模8、凹模9、第一凸模3,橫向凸模7設置在凸模8和凹模9的上方,橫向凸模7的一端與凸模8的頂端工作面相接觸,另一端面向第一凸模3的側面,
第一凸模3的底端位于下模座10的中間位置,第一凸模3的頂端與上模座1活動連接,第一凸模3的頂端中部與上模座1之間設置彈簧2,上模座1的兩側安裝有壓塊5,第一凸模3的側面安裝有擺塊4,當壓塊5向下移動時,推動擺塊4下壓。
所述下模座的中部開設有用于頂桿穿過的通孔。
所述的框形件一次成形彎曲模,其特征在于:還包括頂板,頂板水平設置在兩個凸模之間的位置,與第一凸模的工作面相對應。
所述的框形件一次成形彎曲模,其特征在于:所述凸模的工作面為四分之一的圓弧面,用于推動橫向凸模沿凸模的工作面運動而被迫做橫向運動。
所述的框形件一次成形彎曲模,其特征在于:所述上模座與第一凸模之間還設置有導向柱。
所述的框形件一次成形彎曲模,其特征在于:所述壓塊的底部還設置有調整塊,對彎曲件有校正作用。
所述的框形件一次成形彎曲模,其特征在于:所述擺塊的工作面為平面結構。
本發明的工作過程如下:毛坯放置于凹模9上定位,上模下行時,第一凸模3將毛坯彎曲成U形。上模繼續下行,彈簧2被壓縮,橫向凸模7沿凸模8的工作面運動而被迫做橫向運動,彎曲c、b圓弧。接著壓塊5壓下擺塊4,彎曲a圓弧,行程終了對彎曲件有校正作用。
以上所述僅是本發明的優選實施方式,應當指出:對于本技術領域的普通技術人員來說,在不脫離本發明原理的前提下,還可以做出若干改進和潤飾,這些改進和潤飾也應視為本發明的保護范圍。
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