[發明專利]OLED顯示面板及其制備方法

在審

• 申請號: 201710527966.4
• 申請日: 2017-06-30
• 公開（公告）號: CN109216577A
• 公開（公告）日: 2019-01-15
• 發明（設計）人: 林立;邢汝博;蔡世星;劉勝芳
• 申請（專利權）人: 昆山工研院新型平板顯示技術中心有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 智云

1.一種OLED顯示面板，其特征在于，包括基板以及形成于所述基板上的底電極、像素定義層、功能層、頂電極和薄膜封裝層；所述像素定義層形成有若干像素開口，位于所述像素開口內的底電極、功能層以及頂電極構成像素單元；所述OLED顯示面板上還形成有若干凹陷，所述薄膜封裝層填充所述凹陷；所述凹陷形成于所述像素定義層中，并至少貫穿部分厚度的像素定義層。

2.如權利要求1所述的OLED顯示面板，其特征在于，還包括形成于所述基板上的平坦化層，所述底電極形成于所述平坦化層上；所述凹陷貫穿部分厚度或全部厚度的像素定義層，或者，所述凹陷貫穿全部厚度的像素定義層以及部分厚度或全部厚度的平坦化層。

3.如權利要求1或2所述的OLED顯示面板，其特征在于，所述凹陷為垂直孔。

4.如權利要求1或2所述的OLED顯示面板，其特征在于，所述凹陷靠近基板的一端的截面寬度大于其遠離基板的一端的截面寬度。

5.如權利要求1或2所述的OLED顯示面板，其特征在于，所述凹陷靠近基板的一端的截面寬度小于其遠離基板的一端的截面寬度。

6.如權利要求1或2所述的OLED顯示面板，其特征在于，至少部分像素單元周圍的像素定義層處形成有所述凹陷。

7.如權利要求1或2所述的OLED顯示面板，其特征在于，每個像素單元周圍的像素定義層處形成有一個或多個所述凹陷。

8.一種OLED顯示面板制備方法，其特征在于，包括：

提供一基板；以及

在所述基板上形成底電極、像素定義層、功能層、頂電極和薄膜封裝層，所述像素定義層形成有若干像素開口，且所述OLED顯示面板上還形成有若干凹陷，所述凹陷形成于所述像素定義層中，并至少貫穿部分厚度的像素定義層，所述薄膜封裝層填充所述凹陷。

9.如權利要求8所述的OLED顯示面板制備方法，其特征在于，在所述像素定義層中形成凹陷的步驟包括：

在所述底電極和像素定義層上形成一硬掩膜層；

在所述硬掩模層上形成一光阻層，并通過曝光顯影工藝形成圖形化的光阻層；

以所述圖形化的光阻層為掩膜，刻蝕所述硬掩膜層，形成圖形化的硬掩膜層；以及

以所述圖形化的硬掩膜層作掩膜，刻蝕所述像素定義層，以在所述像素定義層中形成凹陷。

10.如權利要求8所述的OLED顯示面板制備方法，其特征在于，所述像素開口靠近基板的一端的截面寬度小于其遠離基板的一端的截面寬度，所述凹陷靠近基板的一端的截面寬度大于其遠離基板的一端的截面寬度，形成所述像素開口以及凹陷的步驟包括：

采用負性光阻作為掩膜，通過兩次曝光顯影工藝形成所述像素開口以及凹陷，其中，形成所述像素開口時所采用的曝光量小于形成所述凹陷時所采用的曝光量。