[發(fā)明專利]實現(xiàn)殼體表面紋理的方法及終端

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710526878.2
• 申請日: 2017-06-30
• 公開（公告）號: CN107396558B
• 公開（公告）日: 2021-05-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 吳獻(xiàn)明;魏美賢
• 申請（專利權(quán)）人: 捷開通訊（深圳）有限公司
• 主分類號: H05K5/02
• 分類號: H05K5/02;B23K26/362
• 代理公司: 深圳市威世博知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44280
• 代理人: 鐘子敏

1.一種實現(xiàn)殼體表面紋理的方法，其特征在于，該方法包括：

提供一殼體；

采用激光鐳雕在所述殼體一側(cè)形成具有細(xì)孔和/或凹槽的紋理圖案；所述凹槽為圓形凹槽；其中，所述細(xì)孔和/或凹槽的深度大于等于3μm，所述細(xì)孔的直徑和/或所述凹槽的寬度大于等于0.05nm；

在所述殼體的具有所述紋理圖案一側(cè)形成膜層，所述膜層為膜片，所述膜片包括紋理層和聯(lián)結(jié)層，所述紋理層包括基材以及形成在基材上的另一紋理圖案，所述聯(lián)結(jié)層位于所述紋理層具有所述另一紋理圖案一側(cè)；其中，所述紋理層上的所述另一紋理圖案與所述殼體上的所述紋理圖案一致或不同。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實現(xiàn)殼體表面紋理的方法，其特征在于，所述激光鐳雕采用激光波長266-1064nm，工作電流7-18A，功率密度為100—109w/cm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實現(xiàn)殼體表面紋理的方法，其特征在于，所述鐳雕采用紫外激光，波長為300-400nm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實現(xiàn)殼體表面紋理的方法，其特征在于，當(dāng)所述膜層為膜片時，所述在所述殼體的具有所述紋理圖案一側(cè)形成膜層的步驟包括：通過熱轉(zhuǎn)印或壓力轉(zhuǎn)印將所述膜片結(jié)合在所述殼體的具有所述紋理圖案一側(cè)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的實現(xiàn)殼體表面紋理的方法，其特征在于，所述采用激光鐳雕在所述殼體一側(cè)形成具有細(xì)孔和/或凹槽的紋理圖案的步驟之后，還包括：在所述殼體具有所述紋理圖案一側(cè)噴涂PU漆層。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的實現(xiàn)殼體表面紋理的方法，其特征在于，所述殼體為金屬和合金材質(zhì)。

7.一種終端，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-6任一項所述的殼體及形成在所述殼體的具有所述紋理圖案一側(cè)的膜層。