[發明專利]一種掩膜條的接合方法、接合裝置、掩膜版有效
| 申請號: | 201710526264.4 | 申請日: | 2017-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN107201498B | 公開(公告)日: | 2019-03-15 |
| 發明(設計)人: | 林治明;李寶軍;王震;黃俊杰;唐富強 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;張天舒 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 掩膜條 對位 掩膜版 接合裝置 接合 補償數據 對位過程 目標位置 生產效率 實際位置 位置偏差 像素坐標 后框架 死循環 固接 掩膜 焊接 耗時 | ||
本發明提供一種掩膜條的接合方法、接合裝置、掩膜版,屬于顯示技術領域,其可解決現有的由掩膜條焊接成的整張掩膜版對位過程耗時長、對位精度低的問題。本發明中將對位后框架的位置偏差作為第一補償數據補償至了像素坐標基準,因此掩膜條框架的實際位置與目標位置的差異可以設置為較大范圍,這樣可以在較短時間內,使得本級掩膜條框架落入對位精度的閾值范圍,大大降低對位時間,避免進入死循環,提高生產效率的同時不影響掩膜版多個掩膜條的固接精度。
技術領域
本發明屬于顯示技術領域,具體涉及一種掩膜條的接合方法、接合裝置、掩膜版。
背景技術
精細金屬掩膜(FMM Mask)模式是通過蒸鍍方式將有機發光二極管(OrganicLight Emitting Diode,OLED)的紅、綠、藍等有機物材料按照預定程序蒸鍍到低溫多晶硅(Low Temperature Poly-silicon,LTPS)背板上,利用FMM上的圖形,使得紅、綠、藍等有機物材料蒸鍍到規定位置上。
流水作業生產OLED顯示面板時,如圖1所示,一般是先形成具有完整層結構的顯示面板母板1,之后對顯示面板母板1進行切割得到各個子顯示面板2。在顯示面板母板1制作過程中,多個子顯示面板2產品通常采用同步的工藝形成,這樣節省工藝步驟,成本低。因此,顯示面板母板1制作過程中需要將每個子顯示面板2對應的掩膜條焊接成一個整張的掩膜版。焊接的多個掩膜條的位置精度直接影響產品的顯示品質。
現有技術中掩膜條每次焊接之前都需要進行掩膜條框架的對位,使得掩膜條框架的實際位置與目標位置的差異保持在±aμm范圍內,a可以根據產品尺寸進行設定調整。
發明人發現現有技術中至少存在如下問題:若將a設定值降低,例如設置成a=0.2μm,由于工藝限制,會使對位過程、焊接過程耗時較長,甚至進入死循環,影響有效的工藝時間,降低生產效率;若設定a=0.5μm,則第一次焊接時若a=-0.5μm,第二次焊接時a=+0.5μm,這樣會導致后面的掩膜條的實際位置精度整體差異達到1μm,影響整張掩膜版的焊接精度。
發明內容
本發明針對現有的由掩膜條焊接成的整張掩膜版對位過程耗時長、對位精度低的問題,提供一種掩膜條的接合方法、接合裝置、掩膜版。
解決本發明技術問題所采用的技術方案是:
一種掩膜條的接合方法,包括以下步驟:
S1、對本級掩膜條的框架進行對位,并檢測對位后框架的位置偏差以獲得第一補償數據;
S2、根據所述第一補償數據調整本級掩膜條的像素坐標基準;
S3、根據所述像素坐標基準將本級掩膜條固接至框架上。
優選的是,在步驟S2之前還包括根據已固接的掩膜條的像素位置偏差的均值獲得本級掩膜條像素坐標基準的第二補償數據的步驟;
其中,步驟S2所述調整本級掩膜條的像素坐標基準是根據所述第一補償數據和第二補償數據調整本級掩膜條的像素坐標基準。
優選的是,在步驟S3所述將本級掩膜條固接至框架上后還包括檢測本級掩膜條的像素位置偏差的步驟。
優選的是,所述根據所述第一補償數據和第二補償數據調整本級掩膜條的像素坐標基準包括將所述第一補償數據和第二補償數據進行同向相加異向相減的運算后計算本級掩膜條像素坐標基準需要調整的距離。
優選的是,所述將本級掩膜條固接至框架上包括將本級掩膜條焊接至框架上
優選的是,所述本級掩膜條的框架的對位精度的閾值范圍為-1.2μm~+1.2μm。
本發明還提供一種掩膜條的接合裝置,包括:
對位單元,用于對本級掩膜條的框架進行對位;
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