[發(fā)明專利]冷凝板、真空干燥設(shè)備以及真空干燥方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710526220.1 | 申請(qǐng)日: | 2017-06-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109200736B | 公開(公告)日: | 2021-01-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王輝鋒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | B01D53/00 | 分類號(hào): | B01D53/00;B01D5/00;F26B3/20;F26B5/04 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 姜春咸;陳源 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 冷凝 真空 干燥設(shè)備 以及 干燥 方法 | ||
1.一種冷凝板,用于在膜層干燥工藝中與待干燥基板相對(duì)設(shè)置,以使得待干燥基板上的溶劑蒸發(fā)后凝結(jié)在所述冷凝板上,所述冷凝板包括本體,其特征在于,所述本體上設(shè)置有溶劑存放結(jié)構(gòu),所述溶劑存放結(jié)構(gòu)用于存放溶劑,所述溶劑用于蒸發(fā)后形成氣體,并朝向所述待干燥基板釋放;
所述溶劑存放結(jié)構(gòu)在所述本體所在平面上的正投影為環(huán)狀投影;
所述環(huán)狀投影的外環(huán)為矩形,矩形外環(huán)的長(zhǎng)度大于所述待干燥基板的待干燥區(qū)的長(zhǎng)度,矩形外環(huán)的寬度大于所述待干燥區(qū)的寬度;所述環(huán)狀投影的內(nèi)環(huán)為矩形,矩形內(nèi)環(huán)的長(zhǎng)度不大于所述待干燥基板的待干燥區(qū)的長(zhǎng)度,矩形內(nèi)環(huán)的寬度不大于所述待干燥區(qū)的寬度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷凝板,其特征在于,所述溶劑存放結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述本體用于朝向所述待干燥基板的一側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的冷凝板,其特征在于,所述本體包括中間區(qū)和環(huán)繞所述中間區(qū)的邊緣區(qū),所述溶劑存放結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述邊緣區(qū);或者,
所述溶劑存放結(jié)構(gòu)覆蓋所述本體用于朝向所述待干燥基板的整個(gè)表面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷凝板,其特征在于,所述環(huán)狀投影的環(huán)寬在1mm~100mm之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的冷凝板,其特征在于,所述溶劑存放結(jié)構(gòu)為具有多個(gè)吸附孔的膜層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的冷凝板,其特征在于,所述具有多個(gè)吸附孔的膜層的材料包括硅樹脂材料、聚丙烯材料、含氟材料中的任意一種。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的冷凝板,其特征在于,所述本體內(nèi)設(shè)置有冷卻通道,用于容納冷卻劑。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的冷凝板,其特征在于,所述溶劑用于蒸發(fā)后形成氣體,并朝向所述待干燥基板釋放包括:所述溶劑用于在真空環(huán)境下蒸發(fā)后形成氣體,并朝向所述待干燥基板釋放。
9.一種真空干燥設(shè)備,其特征在于,包括加熱板、真空腔室以及權(quán)利要求1至8中任意一項(xiàng)所述的冷凝板,所述冷凝板和所述加熱板均設(shè)置在所述真空腔室內(nèi),所述加熱板與所述冷凝板相對(duì)設(shè)置,用于承載并加熱待干燥基板。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的真空干燥設(shè)備,其特征在于,所述真空干燥設(shè)備還包括溶劑供給裝置,所述溶劑供給裝置用于向所述溶劑存放結(jié)構(gòu)輸出溶劑。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的真空干燥設(shè)備,其特征在于,所述真空干燥設(shè)備還包括:
檢測(cè)裝置,用于檢測(cè)所述本體上凝結(jié)有溶劑的區(qū)域中單位面積內(nèi)的溶劑量;
控制裝置,用于根據(jù)所述檢測(cè)裝置的檢測(cè)結(jié)果調(diào)節(jié)所述溶劑供給裝置的溶劑輸出量。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的真空干燥設(shè)備,其特征在于,所述溶劑供給裝置包括:
存儲(chǔ)容器,用于存儲(chǔ)溶劑;
輸出管路,與所述存儲(chǔ)容器連通,用于將所述存儲(chǔ)容器中的溶劑輸出至所述溶劑存放結(jié)構(gòu);
調(diào)節(jié)閥,設(shè)置在所述輸出管路上,用于在所述控制裝置的控制下調(diào)節(jié)所述輸出管路的輸出流量。
13.一種利用權(quán)利要求9至12中任意一項(xiàng)所述的真空干燥設(shè)備進(jìn)行的真空干燥方法,其特征在于,包括在每次真空干燥時(shí)進(jìn)行的以下步驟:
將待干燥基板放置在所述加熱板上;
向所述溶劑存放結(jié)構(gòu)輸出溶劑;
加熱所述加熱板,以對(duì)所述待干燥基板上的墨水進(jìn)行干燥。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的真空干燥方法,其特征在于,當(dāng)所述真空干燥設(shè)備包括檢測(cè)裝置和控制裝置時(shí);所述真空干燥方法還包括:
在每次真空干燥結(jié)束后,利用所述檢測(cè)裝置檢測(cè)所述本體上凝結(jié)有溶劑的區(qū)域中單位面積內(nèi)的溶劑量;
所述控制裝置根據(jù)所述檢測(cè)裝置的檢測(cè)結(jié)果調(diào)節(jié)下一次真空干燥時(shí)所述溶劑供給裝置的溶劑輸出量,以使得下一次真空干燥完成后,所述本體上凝結(jié)有溶劑的區(qū)域中,不同位置處的單位面積內(nèi)溶劑量之差不超過預(yù)設(shè)值。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于京東方科技集團(tuán)股份有限公司,未經(jīng)京東方科技集團(tuán)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710526220.1/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 接收裝置以及接收方法、以及程序
- 凈水濾芯以及凈水裝置、以及洗漱臺(tái)
- 隱匿檢索系統(tǒng)以及公開參數(shù)生成裝置以及加密裝置以及用戶秘密密鑰生成裝置以及查詢發(fā)布裝置以及檢索裝置以及計(jì)算機(jī)程序以及隱匿檢索方法以及公開參數(shù)生成方法以及加密方法以及用戶秘密密鑰生成方法以及查詢發(fā)布方法以及檢索方法
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 圖片顯示方法以及裝置以及移動(dòng)終端
- ENB以及UEUL發(fā)送以及接收的方法
- X射線探測(cè)方法以及裝置以及系統(tǒng)
- 圖書信息錄入方法以及系統(tǒng)以及書架
- 護(hù)耳器以及口罩以及眼鏡





