[發明專利]被動式關聯成像光學系統

有效

• 申請號: 201710525289.2
• 申請日: 2017-06-30
• 公開（公告）號: CN107390214B
• 公開（公告）日: 2020-06-30
• 發明（設計）人: 李望;韓申生;吳建榮;沈夏;龔文林;陳明亮
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海光學精密機械研究所
• 主分類號: G01S13/89
• 分類號: G01S13/89;G01S7/02
• 代理公司: 上海恒慧知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31317
• 代理人: 張寧展

1.一種被動式關聯成像光學系統，其特征在于沿入射光線方向依次是同光軸的前置成像鏡組的孔徑光闌(11)即入瞳、前組成像鏡(1)、分光片(2)、后組成像鏡(3)、濾光片(4)、前置成像實像面(5)、場鏡(6)、相位板散斑調制器(7)、干涉散斑場(8)、中繼二次成像鏡組(9)和CCD(10),所述的場鏡(6)的入射面位于所述的前置成像實像面(5),所述的場鏡(6)再將前置成像鏡組的入瞳成像到所述的干涉散斑場(8)，所述的中繼二次成像鏡組(9)將所述的干涉散斑場(8)放大并成像在所述的CCD(10)的探測面上，所述的前置成像實像面(5)與所述的相位板散斑調制器(7)之間的距離視為物距D1，所述的相位板散斑調制器(7)與所述的干涉散斑場(8)之間的距離視為像距D2，所述的相位板散斑調制器(7)的散斑大小H2滿足下列關系式：

H1/H2＝D1/D2

其中，H1為所述的前置成像實像面(5)形成的艾里斑尺寸。

2.根據權利要求1所述的被動式關聯成像光學系統，其特征在于所述的中繼二次成像鏡組(9)的倍率，保證一個散斑大小能夠占CCD的兩個像元。

3.根據權利要求1所述的被動式關聯成像光學系統，其特征在于所述的相位板散斑調制器(7)與所述的干涉散斑場(8)之間的距離D2的選擇范圍為0.5mm～2mm。