[發(fā)明專利]顯示設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710524809.8 | 申請日: | 2017-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN107577082B | 公開(公告)日: | 2021-04-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 申東秀;高俊鎬;崔耀翰 | 申請(專利權(quán))人: | LG電子株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/13357 | 分類號: | G02F1/13357;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 李輝;劉久亮 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 設(shè)備 | ||
公開了一種顯示設(shè)備。所述顯示設(shè)備包括:顯示面板;光學層,所述光學層在所述顯示面板后面;以及框架,所述框架在所述光學層后面。所述框架包括:凸緣,所述凸緣支承所述光學層的后表面的一部分;第一肋材,所述第一肋材從所述凸緣延伸,所述第一肋材的至少一部分與所述光學層的側(cè)部接觸;以及第二肋材,所述第二肋材從所述凸緣延伸并且與所述光學層的所述側(cè)表面相鄰地設(shè)置以與所述光學層的所述側(cè)部間隔開。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及顯示設(shè)備。
背景技術(shù)
隨著信息社會的發(fā)展,對顯示設(shè)備的各種需求不斷增加。諸如液晶顯示器(LCD)、等離子體顯示面板(PDP)、電致發(fā)光顯示器(ELD)和真空熒光顯示器(VFD)的各種顯示設(shè)備已經(jīng)被研究并且用來滿足對顯示設(shè)備的各種需求。
在顯示設(shè)備當中,液晶顯示器的液晶顯示面板包括液晶層、彼此相對地設(shè)置的薄膜晶體管(TFT)基板和濾色器基板,且液晶層插置在薄膜晶體管(TFT)基板和濾色器基板之間。液晶顯示面板使用由液晶顯示器的背光單元提供的光來顯示圖像。
發(fā)明內(nèi)容
因此,本公開的目的在于解決以上問題和其它問題。
本公開的另一方面提供了一種能夠通過提高顯示設(shè)備的耐用性來保持初始圖像質(zhì)量的顯示設(shè)備。
本公開的另一方面提供了一種能夠改變背光單元的光源布置的顯示設(shè)備。
本公開的另一方面提供了一種能夠提高背光單元的光效率的顯示設(shè)備。
本公開的另一方面提供了一種能夠確保纖薄框架的結(jié)構(gòu)剛性的顯示設(shè)備。
本公開的另一方面提供了一種能夠改進光學層的支承結(jié)構(gòu)的顯示設(shè)備。
本公開的另一方面提供了一種能夠提高保持器的組裝便利性且防止保持器脫離的顯示設(shè)備。
本公開的另一方面是提供了一種能夠提高針對外部沖擊的耐用性的顯示設(shè)備。
在一方面,提供一種顯示設(shè)備,該顯示設(shè)備包括:顯示面板;光學層,所述光學層在所述顯示面板后面;以及框架,所述框架在所述光學層后面,其中,所述框架包括:凸緣,所述凸緣支承所述光學層的后表面的一部分;第一肋材(rib),所述第一肋材從所述凸緣延伸,所述第一肋材的至少一部分與所述光學層的側(cè)部接觸;以及第二肋材,所述第二肋材從所述凸緣延伸并且與所述光學層的所述側(cè)表面相鄰地設(shè)置以與所述光學層的所述側(cè)部間隔開。
根據(jù)本公開的另一方面,所述第一肋材可通過彎曲所述凸緣的一部分而形成。
根據(jù)本公開的另一方面,所述第一肋材可包括朝向所述光學層彎曲的伸出物。所述伸出物可與所述光學層接觸。
根據(jù)本公開的另一方面,所述顯示設(shè)備還可包括在所述顯示面板與所述光學層之間的光學片。所述光學片的一部分可包括聯(lián)接部分,所述聯(lián)接部分可插入到所述第二肋材中。
根據(jù)本公開的另一方面,所述第二肋材可與所述框架的一個角部相鄰地設(shè)置,并且所述第一肋材可設(shè)置在所述框架的所述一個角部與所述第二肋材之間。
根據(jù)本公開的另一方面,所述框架可包括:第一長邊,所述第一長邊形成所述框架的一個邊;以及第二長邊,所述第二長邊形成所述框架的另一個邊并且面向所述第一長邊。所述第一肋材可設(shè)置在所述第一長邊和所述第二長邊上。
根據(jù)本公開的另一方面,所述第一肋材可與所述框架的一個角部相鄰地設(shè)置。
根據(jù)本公開的另一方面,所述第二肋材可包括朝向所述光學層彎曲的伸出物。所述伸出物可與所述光學層接觸。
下面描述根據(jù)本公開的顯示設(shè)備的效果。
根據(jù)本公開的至少一個方面,本公開可通過提高顯示設(shè)備的耐用性來保持顯示設(shè)備的初始圖像質(zhì)量。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的
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