[發明專利]進排水控制方法、進排水控制系統及烹飪器具有效
| 申請號: | 201710524701.9 | 申請日: | 2017-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN109199118B | 公開(公告)日: | 2022-12-23 |
| 發明(設計)人: | 區達理;王志鋒;馮江平;劉經生;王帥;嚴平;劉傳蘭;馬志海;陳逸凡;劉志才;孫毅 | 申請(專利權)人: | 佛山市順德區美的電熱電器制造有限公司 |
| 主分類號: | A47J36/00 | 分類號: | A47J36/00;A47J43/24;G05B19/042 |
| 代理公司: | 北京友聯知識產權代理事務所(普通合伙) 11343 | 代理人: | 尚志峰;汪海屏 |
| 地址: | 528311 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 排水 控制 方法 控制系統 烹飪 器具 | ||
1.一種進排水控制方法,用于烹飪器具,所述烹飪器具包括水位檢測裝置,所述水位檢測裝置的個數為至少兩個,其中兩個所述水位檢測裝置分別分布于所述烹飪器具的清洗腔的上部和下部,位于所述清洗腔上部的所述水位檢測裝置用于檢測第一預設水量,位于所述清洗腔下部的所述水位檢測裝置用于檢測第二預設水量,其特征在于,包括:
實時檢測所述烹飪器具的清洗腔內的水位;
進水時,當所述水位達到所述第一預設水量時,關閉所述烹飪器具的進水閥;
排水時,當所述水位達到所述第二預設水量時,關閉所述烹飪器具的排水閥,控制所述烹飪器具執行下一步程序;
所述實時檢測所述烹飪器具的清洗腔內的水位具體為:檢測所述烹飪器具的電容水位檢測板上的電容變化量;根據所述電容變化量計算出所述清洗腔內的水位;或
所述實時檢測所述烹飪器具的清洗腔內的水位具體為:檢測所述烹飪器具的浮子的位置;根據所述浮子的位置反饋所述清洗腔內的水位;
所述檢測所述烹飪器具的浮子的位置具體為:
向所述烹飪器具的浮子通道的另一側發送光線;
檢測所述浮子通道的另一側的光線變化;
當光線變暗時,根據所述光線變暗的位置反饋所述浮子的位置。
2.根據權利要求1所述的進排水控制方法,其特征在于,所述實時檢測所述烹飪器具的清洗腔內的水位具體為:
檢測伸入所述清洗腔內部的所述烹飪器具的正負電極之間的電阻值;
根據所述電阻值反饋出所述清洗腔內的水位。
3.根據權利要求1所述的進排水控制方法,其特征在于,所述檢測所述烹飪器具的浮子的位置具體為:
檢測所述烹飪器具的浮子通道內的微動開關的開關狀態;
判斷所述開關狀態是否發生變化;
當判斷為是時,根據所述微動開關的位置反饋所述浮子的位置。
4.根據權利要求1所述的進排水控制方法,其特征在于,所述浮子具有磁場,所述檢測所述烹飪器具的浮子的位置具體為:
檢測位于所述烹飪器具的浮子通道一側的磁控開關的開關狀態;
判斷所述開關狀態是否發生變化;
當判斷為是時,根據所述磁控開關的位置反饋所述浮子的位置。
5.一種進排水控制系統,用于烹飪器具,所述烹飪器具包括水位檢測裝置,所述水位檢測裝置的個數為至少兩個,其中兩個所述水位檢測裝置分別分布于所述烹飪器具的清洗腔的上部和下部,位于所述清洗腔上部的所述水位檢測裝置用于檢測第一預設水量,位于所述清洗腔下部的所述水位檢測裝置用于檢測第二預設水量,其特征在于,包括:
檢測單元,用于實時檢測所述烹飪器具的清洗腔內的水位;
第一控制單元,用于進水時,當所述水位達到所述第一預設水量時,關閉所述烹飪器具的進水閥;
第二控制單元,用于排水時,當所述水位達到所述第二預設水量時,關閉所述烹飪器具的排水閥,控制所述烹飪器具執行下一步程序;
所述檢測單元包括:
第三檢測單元,用于檢測所述烹飪器具的浮子的位置;
第二反饋單元,用于根據所述浮子的位置反饋所述清洗腔內的水位;
所述第三檢測單元包括:
第一發送單元,用于向所述烹飪器具的浮子通道的另一側發送光線;
光線檢測單元,用于檢測所述浮子通道的另一側的光線變化;
第三反饋單元,用于當光線變暗時,根據所述光線變暗的位置反饋所述浮子的位置;
第一檢測單元,用于檢測所述烹飪器具的電容水位檢測板上的電容變化量;
第一計算單元,用于根據所述電容變化量計算出所述清洗腔內的水位。
6.根據權利要求5所述的進排水控制系統,其特征在于,所述檢測單元包括:
第二檢測單元,用于檢測伸入所述清洗腔內部的所述烹飪器具的正負電極之間的電阻值;
第一反饋單元,用于根據所述電阻值反饋出所述清洗腔內的水位。
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