[發(fā)明專利]基板處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710523906.5
• 申請日: 2017-06-30
• 公開（公告）號: CN107564836B
• 公開（公告）日: 2021-01-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李知桓;崔重奉;許瓚寧;許弼覠;姜秉萬
• 申請（專利權(quán)）人: 細(xì)美事有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/683
• 代理公司: 北京市中倫律師事務(wù)所 11410
• 代理人: 石寶忠

1.一種基板處理裝置，包括：

旋轉(zhuǎn)頭；

支撐軸，所述支撐軸與所述旋轉(zhuǎn)頭的下部連接以支撐所述旋轉(zhuǎn)頭；

支撐銷，所述支撐銷位于所述旋轉(zhuǎn)頭的上表面上以支撐所述基板的底表面，并且所述支撐銷在其內(nèi)部具有第一空間；

卡盤銷，所述卡盤銷位于所述旋轉(zhuǎn)頭中并且從所述旋轉(zhuǎn)頭的所述上表面向上突出以支撐所述基板的側(cè)表面，并且所述卡盤銷在其內(nèi)部具有第二空間；和

噴嘴構(gòu)件，所述噴嘴構(gòu)件被構(gòu)造成向位于所述旋轉(zhuǎn)頭上的所述基板供應(yīng)液體，

其中，在所述卡盤銷的上端形成有連通部，所述連通部被構(gòu)造成提供供施加到所述基板的液體流向外部的路徑，

其中，所述連通部具有從所述卡盤銷的上端向下凹進(jìn)的凹部的形狀，或者所述連通部是形成在所述卡盤銷的上端的孔。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其中在所述支撐銷的內(nèi)部形成的所述第一空間延伸到所述支撐銷的下端，并且在所述卡盤銷內(nèi)部形成的所述第二空間延伸到所述卡盤銷的下端。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其中在所述支撐銷的內(nèi)部形成的所述第一空間被抽真空，并且在所述卡盤銷的內(nèi)部形成的所述第二空間被抽真空。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，在所述卡盤銷的朝向與所述基板接觸的部分的部分處，所述卡盤銷的所述空間與外表面之間的厚度大于所述卡盤銷的與所述基板接觸的部分的厚度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，在所述卡盤銷的朝向與所述基板接觸的部分的部分處，所述卡盤銷具有向外突出的加強(qiáng)部。